特許
J-GLOBAL ID:201003054611798040
炭酸塩化合物の沈殿を含む脱塩方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-515179
公開番号(公開出願番号):特表2010-531732
出願日: 2008年06月27日
公開日(公表日): 2010年09月30日
要約:
炭酸塩化合物沈殿を含む脱塩方法を提供する。特定の実施形態において、供給水を脱塩の前に炭酸塩化合物沈殿条件に供する。特定の実施形態において、脱塩廃ブラインを炭酸塩化合物沈殿条件に供する。さらに他の実施形態において、供給水と廃ブラインとの両方を炭酸塩化合物沈殿条件に供する。本発明の実施形態の態様には、二酸化炭素の隔離が含まれる。本発明の実施形態ではさらに、炭酸塩化合物沈殿条件の沈殿生成物を建築材料、例えばセメントとして使用する。さらにまた、本発明の方法に使用するために構成されたシステムを提供する。
請求項(抜粋):
水を脱塩する方法であって、前記方法が、
供給水を提供する工程と;
前記供給水を脱塩プロセスに供し、脱塩された生成水および廃ブラインを生成する工程と
を含み、
前記方法がさらに、前記方法の間に少なくとも1回、炭酸塩化合物沈殿プロセスを使用する工程を含む、方法。
IPC (8件):
C02F 1/58
, C01B 5/00
, C01F 11/18
, B01D 61/02
, C02F 1/44
, C02F 1/04
, C04B 14/26
, C04B 28/02
FI (9件):
C02F1/58 J
, C01B5/00 Z
, C01F11/18 B
, B01D61/02 500
, C02F1/44 G
, C02F1/04 A
, C02F1/58 H
, C04B14/26
, C04B28/02
Fターム (35件):
4D006GA03
, 4D006KA01
, 4D006KA72
, 4D006KB13
, 4D006KB14
, 4D006PA01
, 4D006PB03
, 4D006PC80
, 4D034AA01
, 4D034BA03
, 4D034CA12
, 4D034CA13
, 4D034CA14
, 4D038AA03
, 4D038AB25
, 4D038AB57
, 4D038AB59
, 4D038AB60
, 4D038AB66
, 4D038AB81
, 4D038AB82
, 4D038BB01
, 4D038BB02
, 4D038BB09
, 4D038BB13
, 4G076AA16
, 4G076AB24
, 4G076BA30
, 4G076BC02
, 4G076BD01
, 4G076BE11
, 4G076CA02
, 4G076CA26
, 4G076DA30
, 4G112PA10
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