特許
J-GLOBAL ID:201003054611798040

炭酸塩化合物の沈殿を含む脱塩方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-515179
公開番号(公開出願番号):特表2010-531732
出願日: 2008年06月27日
公開日(公表日): 2010年09月30日
要約:
炭酸塩化合物沈殿を含む脱塩方法を提供する。特定の実施形態において、供給水を脱塩の前に炭酸塩化合物沈殿条件に供する。特定の実施形態において、脱塩廃ブラインを炭酸塩化合物沈殿条件に供する。さらに他の実施形態において、供給水と廃ブラインとの両方を炭酸塩化合物沈殿条件に供する。本発明の実施形態の態様には、二酸化炭素の隔離が含まれる。本発明の実施形態ではさらに、炭酸塩化合物沈殿条件の沈殿生成物を建築材料、例えばセメントとして使用する。さらにまた、本発明の方法に使用するために構成されたシステムを提供する。
請求項(抜粋):
水を脱塩する方法であって、前記方法が、 供給水を提供する工程と; 前記供給水を脱塩プロセスに供し、脱塩された生成水および廃ブラインを生成する工程と を含み、 前記方法がさらに、前記方法の間に少なくとも1回、炭酸塩化合物沈殿プロセスを使用する工程を含む、方法。
IPC (8件):
C02F 1/58 ,  C01B 5/00 ,  C01F 11/18 ,  B01D 61/02 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/04 ,  C04B 14/26 ,  C04B 28/02
FI (9件):
C02F1/58 J ,  C01B5/00 Z ,  C01F11/18 B ,  B01D61/02 500 ,  C02F1/44 G ,  C02F1/04 A ,  C02F1/58 H ,  C04B14/26 ,  C04B28/02
Fターム (35件):
4D006GA03 ,  4D006KA01 ,  4D006KA72 ,  4D006KB13 ,  4D006KB14 ,  4D006PA01 ,  4D006PB03 ,  4D006PC80 ,  4D034AA01 ,  4D034BA03 ,  4D034CA12 ,  4D034CA13 ,  4D034CA14 ,  4D038AA03 ,  4D038AB25 ,  4D038AB57 ,  4D038AB59 ,  4D038AB60 ,  4D038AB66 ,  4D038AB81 ,  4D038AB82 ,  4D038BB01 ,  4D038BB02 ,  4D038BB09 ,  4D038BB13 ,  4G076AA16 ,  4G076AB24 ,  4G076BA30 ,  4G076BC02 ,  4G076BD01 ,  4G076BE11 ,  4G076CA02 ,  4G076CA26 ,  4G076DA30 ,  4G112PA10

前のページに戻る