ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-014712
公開番号（公開出願番号）：特開2010-170055
出願日： 2009年01月26日
公開日（公表日）： 2010年08月05日
要約：

【課題】有機溶剤への溶解性と、支持体への塗布性のいずれも優れたポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを有機溶剤(S)に溶解してなるポジ型レジスト組成物であって、(A)成分は、特定の4種の構成単位を有する樹脂成分(A1)を含有し、(S)成分は、アルコール系有機溶剤(S1)60〜99質量%と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びシクロヘキサノンからなる群から選択される少なくとも一種の有機溶剤(S2)1〜40質量%とを含有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを有機溶剤(S)に溶解してなるポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)は、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)と、下記一般式(a5-1)で表される構成単位(a5)とを有する樹脂成分(A1)を含有し、前記有機溶剤(S)は、アルコール系有機溶剤(S1)と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びシクロヘキサノンからなる群から選択される少なくとも一種の有機溶剤(S2)とを含有し、かつ、有機溶剤(S)における有機溶剤(S1)の割合が60〜99質量%であり、有機溶剤(S)における有機溶剤(S2)の割合が1〜40質量%であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , G03F 7/40 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , G03F7/40 511 , H01L21/30 502R , H01L21/30 502C

Fターム (31件)：

2H025AA00 , 2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC03 , 2H025CC20 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 2H025FA33 , 2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096EA03 , 2H096EA05 , 2H096EA06 , 2H096EA07 , 2H096EA23 , 2H096FA01 , 2H096GA08 , 2H096HA05 , 2H096JA02 , 2H096JA04 , 5F046AA13 , 5F046LA19

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