特許

J-GLOBAL ID：201003056397233393

電子デバイス製造装置および電子デバイスの製造方法

発明者： 茅野 祐治
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-069616
公開番号（公開出願番号）：特開2010-225353
出願日： 2009年03月23日
公開日（公表日）： 2010年10月07日
要約：

【課題】電子デバイス製造装置の占有スペースの増大や基板を流動させる際のロスタイムを発生させることなく、蒸着マスクをクリーニングすることのできる電子デバイス製造装置および電子デバイスの製造方法を提供すること。【解決手段】電子デバイス製造装置10では、有機膜蒸着室66R、66G、66Bでのマスク蒸着に用いた蒸着マスクについては、蒸着マスク返却路75を介して、最下流側の有機膜蒸着室66Bから最上流側の有機膜蒸着室66Rに戻す。蒸着マスク返却路75にはプラズマ処理装置が設けられており、蒸着マスク返却路75において蒸着マスク40にプラズマを照射することにより、蒸着マスク40に付着した有機物を除去する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基板の搬送方向の上流側から下流側に向かって、当該基板に対して大気と異なる雰囲気 でのマスク蒸着により有機膜を形成する複数の有機膜蒸着室を有する電子デバイス製造装 置であって、 前記複数の有機膜蒸着室のうち、最下流側の有機膜蒸着室から最上流側の有機膜蒸着室 に向けて大気と異なる雰囲気中で蒸着マスクを搬送するための蒸着マスク返却路を有し、 当該蒸着マスク返却路には、前記蒸着マスクを搬送する蒸着マスク搬送機構と、前記蒸 着マスクにプラズマを照射して当該蒸着マスクに付着した有機物を除去するプラズマ処理 装置と、が設けられていることを特徴とする電子デバイス製造装置。

IPC (3件)：

H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  C23C 14/00

FI (3件)：

H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  C23C14/00 B

Fターム (18件)：

3K107AA01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG28 ,  3K107GG32 ,  3K107GG33 ,  4K029AA02 ,  4K029AA04 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029FA09 ,  4K029HA01 ,  4K029KA09