特許
J-GLOBAL ID：201003058292822213
コンデンサの製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-257346
公開番号（公開出願番号）：特開2010-087401
出願日： 2008年10月02日
公開日（公表日）： 2010年04月15日
要約：
【課題】耐電圧が高い上に、静電容量が高く、ESRが充分に小さいコンデンサを簡便にかつ高い生産性で製造できるコンデンサの製造方法を提供する。【解決手段】本発明のコンデンサの製造方法は、陽極11の表面に誘電体層12が形成されたコンデンサ用基材10aの誘電体層12側に、π共役系導電性高分子、ポリアニオンおよび溶媒を含む導電性高分子溶液を塗布し、乾燥して導電性高分子膜を形成する成膜処理を2回以上繰り返し、2回目以降の少なくとも1回の成膜処理に用いる導電性高分子溶液として、1回目の成膜処理に用いる導電性高分子溶液より粘度が高い高粘度溶液を用いる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
弁金属からなる陽極の表面を酸化処理し、誘電体層を形成して、コンデンサ用基材を得る工程と、該コンデンサ用基材の誘電体層の表面に固体電解質層を形成する工程とを有するコンデンサの製造方法において、
固体電解質層を形成する工程では、前記コンデンサ用基材の誘電体層に、π共役系導電性高分子、ポリアニオンおよび溶媒を含む導電性高分子溶液を塗布し、乾燥して導電性高分子膜を形成する成膜処理を2回以上繰り返し、
2回目以降の少なくとも1回の成膜処理に用いる導電性高分子溶液として、1回目の成膜処理に用いる導電性高分子溶液より粘度が高い高粘度溶液を用いることを特徴とするコンデンサの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
前のページに戻る
