特許
J-GLOBAL ID：201003059228116735
流動抵抗低減構造及び流動抵抗低減方法
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (2件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-013053
公開番号（公開出願番号）：特開2010-167929
出願日： 2009年01月23日
公開日（公表日）： 2010年08月05日
要約：
【課題】簡単な構造で、主流液体の流動抵抗を低減することができる流動抵抗低減構造及び流動抵抗低減方法を得る。【解決手段】流動抵抗低減構造10は、主流液体12の流れ場FFが接するように設けられた壁体14と、壁体14における流れ場FF側の表面14Aに設けられた微細凸凹構造18と、微細凸凹構造18の保持された含浸液体20とを備える。含浸液体20は、主流液体12に対し低粘度でかつ該主流液体12に非相溶性の液体とされている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
主流液体の流れ場が接するように設けられた壁体と、
前記壁体における前記流れ場側の表面に、前記主流液体とは異なる種類の被保持液体を保持させる液保持構造と、
を備えた流動抵抗低減構造。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
前のページに戻る
