特許
J-GLOBAL ID：201003059342595880

化粧シート及びその製造方法

発明者：
高柳 彰宏

高柳 彰宏 について

, 
藤野 直樹

藤野 直樹 について


出願人/特許権者：
シーアイ化成株式会社

シーアイ化成株式会社 について


代理人 (6件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-214378
公開番号（公開出願番号）：特開2010-046954
出願日： 2008年08月22日
公開日（公表日）： 2010年03月04日
要約：
【課題】意匠性に優れ、再加熱の必要な後加工においても発泡が起きず、更に光輝顔料を有する層の表面に光輝顔料による突起が生じない化粧シート及びその製造方法。【解決手段】本発明の化粧シートは、基材フィルム層と、表面フィルム層と、基材フィルム層と表面フィルム層との間に配置される硬化塗膜層を有し、該硬化塗膜層が粒径10〜500μmの光輝顔料と電子線硬化性樹脂とを含有する電子線硬化性組成物からなることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基材フィルム層と、表面フィルム層と、基材フィルム層と表面フィルム層との間に配置される硬化塗膜層を有し、 該硬化塗膜層が粒径10〜500μmの光輝顔料と電子線硬化性樹脂とを含有する電子線硬化性組成物からなる化粧シート。
IPC (2件)：
B32B 33/00 ,  E04F 13/07
FI (2件)：
B32B33/00 ,  E04F13/00 B
Fターム (26件)：
4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AK01D ,  4F100AK25 ,  4F100AK42 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100CA13B ,  4F100DD07A ,  4F100EH461 ,  4F100EJ533 ,  4F100EJ91C ,  4F100GB08 ,  4F100GB32 ,  4F100GB48 ,  4F100GB81 ,  4F100HB31A ,  4F100JB14B ,  4F100JB14D ,  4F100JK14 ,  4F100JN01D ,  4F100YY00B
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 特許第3929082号公報
審査官引用 (12件)
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