特許
J-GLOBAL ID：201003061014798000
露光方法及び露光装置、並びにリソグラフィシステム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-283662
公開番号（公開出願番号）：特開2010-114164
出願日： 2008年11月04日
公開日（公表日）： 2010年05月20日
要約：
【課題】投影像の歪みを補正して、物体上に形成されるパターンの重ね合わせ精度を向上させる。【解決手段】主制御装置50は、ウエハWの現工程レイヤに対する走査露光において、補正関数により記述されるレチクルRのパターンの投影像の歪みの補正に従って、レンズ素子27を駆動するあるいはステージRST,WSTの同期駆動を微小補正して、投影像の歪みを元工程レイヤのパターンの歪みに一致させる。ここで、補正関数内の係数に代入する値の候補のうち、露光装置の投影像の歪みを補正する機能の限界に応じて定まる閾値を超える値の候補を閾値以下の値に変更し、その変更を相殺するように、閾値を超えない他の値の候補を変更する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
マスクと光学系とを介して物体に照明光を投射しつつ前記マスクと前記物体とを前記照明光に対して走査されるように走査方向に同期駆動することにより、前記マスクに形成されたパターンを前記物体上に転写する露光方法であって、
前記パターンの転写像の歪みの補正内容を記述する多項式の係数に代入する値の候補のうち、前記係数のそれぞれに対して設定されている閾値を超える値の候補を前記閾値以下の値に変更し、該値の変更の程度に応じて、前記閾値を超えない他の値の候補の少なくとも1つを変更し、前記値の候補を前記多項式の係数に代入する工程と;
前記多項式により記述される前記歪みの補正内容に従って、前記光学系を構成する光学素子の駆動と、前記マスクと前記物体との同期駆動と、の少なくとも一方を制御して、前記物体上に転写される前記パターンの転写像の歪みを補正する工程と;
を含む露光方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB12
, 5F046CB25
, 5F046DA13
, 5F046DD06
, 5F046FC05
