特許

J-GLOBAL ID：201003061398902209

酸化パルプ中に残留する有機系酸化触媒の除去方法

発明者： 宮脇 正一 ,  勝川 志穂 ,  阿部 裕 ,  飯嶋 夕子 ,  磯貝 明
出願人/特許権者： 日本製紙株式会社
代理人 (7件)： 小野 新次郎 ,  社本 一夫 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  松山 美奈子 ,  小笠原 有紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-082439
公開番号（公開出願番号）：特開2010-235669
出願日： 2009年03月30日
公開日（公表日）： 2010年10月21日
要約：

【課題】N-オキシル化合物を酸化触媒として得られた酸化パルプから、残留するN-オキシル化合物を効率良く除去できる方法を提供する。【解決手段】酸化パルプを超臨界二酸化炭素と接触させることにより、酸化パルプ中に残留するN-オキシル化合物を超臨界二酸化炭素中に抽出して除去する。こうして得られたN-オキシル化合物含量の少ない酸化パルプを用いることにより、N-オキシル化合物含量の少ないセルロースナノファイバーを調製することができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(1)N-オキシル化合物、及び、(2)臭化物、ヨウ化物若しくはこれらの混合物の存在下で、酸化剤を用いてセルロース系原料を酸化して得られた酸化パルプから、N-オキシル化合物を除去する方法であって、該酸化パルプを超臨界二酸化炭素に接触させることにより酸化パルプからN-オキシル化合物を抽出することを特徴とする、N-オキシル化合物の除去方法。

IPC (5件)：

C08B 15/02 ,  D21H 11/18 ,  D21H 11/20 ,  D21C 9/12 ,  B01D 11/00

FI (5件)：

C08B15/02 ,  D21H11/18 ,  D21H11/20 ,  D21C9/12 ,  B01D11/00

Fターム (34件)：

4C090AA01 ,  4C090BA34 ,  4C090BC01 ,  4C090CA20 ,  4C090DA28 ,  4D056AB14 ,  4D056AB19 ,  4D056AC24 ,  4D056BA16 ,  4D056CA21 ,  4D056CA22 ,  4D056CA33 ,  4D056CA39 ,  4D056DA01 ,  4D056DA02 ,  4G169AA02 ,  4G169AA15 ,  4G169BA21A ,  4G169BA21B ,  4G169BE20A ,  4G169BE20B ,  4G169BE38A ,  4G169BE38B ,  4G169CD10 ,  4G169DA05 ,  4L055AD06 ,  4L055AD17 ,  4L055AD20 ,  4L055AF09 ,  4L055AF44 ,  4L055BB03 ,  4L055EA20 ,  4L055EA23 ,  4L055FA07