特許

J-GLOBAL ID：201003063764679570

基板加熱構造体

発明者： 加藤 公二 ,  狩野 正樹 ,  山村 和市
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (4件)： 嶋崎 英一郎 ,  河野 尚孝 ,  荒井 鐘司 ,  石井 あき子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-092770
公開番号（公開出願番号）：特開2010-244864
出願日： 2009年04月07日
公開日（公表日）： 2010年10月28日
要約：

【課題】 基板加熱構造体の発熱部およびサセプターおよびリフレクターの少なくともどれか1つに、面内方向で熱伝導調整部を設け、被加熱物を目的とする平面温度分布に加熱することを課題とする。【解決手段】 被加熱物を加熱するための基板加熱構造体において、被加熱物の温度分布を均一にするため、発熱部の他に、サセプターもしくはリフレクターの少なくともどちらか1つを有し、発熱部およびサセプターおよびリフレクターの少なくともどれか1つに、面内方向で熱伝導調整部を設け、被加熱物を目的とする温度分布に加熱する基板加熱構造体である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被加熱物を加熱するための基板加熱構造体において、被加熱物の温度分布を均一にするため、発熱部の他に、サセプターもしくはリフレクターの少なくともどちらか1つを有し、発熱部およびサセプターおよびリフレクターの少なくともどれか1つに、面内方向で熱伝導を調整するための熱伝導調整部を設け、被加熱物を目的とする温度分布に加熱することを特徴とする基板加熱構造体。

IPC (2件)：

H05B 3/68 ,  H01L 21/02

FI (2件)：

H05B3/68 ,  H01L21/02 Z

Fターム (7件)：

3K092PP20 ,  3K092QA05 ,  3K092SS02 ,  3K092SS04 ,  3K092SS12 ,  3K092SS13 ,  3K092VV21