特許
J-GLOBAL ID：201003063970940977
エポキシドと二酸化炭素との立体選択的交互共重合
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
小野 新次郎
, 社本 一夫
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 相馬 貴昌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-163864
公開番号（公開出願番号）：特開2010-001443
出願日： 2008年06月23日
公開日（公表日）： 2010年01月07日
要約：
【課題】キラルエポキシドのラセミ混合物を用いて、一種類のエポキシド光学異体性と二酸化炭素とをエナンチオ選択的に重合させ、且つ、極めて高い転化率でエポキシド原料からポリカルボナートを生成させることが可能な触媒化合物を提供すること。【解決手段】配位原子としてO、N、N、Oを有する四座配位子のコバルト-シッフ塩基錯体の存在下、エポキシド化合物をモノマー原料として、二酸化炭素と共重合させることによりポリカルボナート共重合体を製造する方法であって、前記コバルト-シッフ塩基錯体が式(I)で表される化合物であることを特徴とする前記方法によって上記課題を解決する。 【化1】【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
配位原子としてO、N、N、Oを有する四座配位子のコバルト-シッフ塩基錯体の存在下、エポキシド化合物をモノマー原料として、二酸化炭素と共重合させることによりポリカルボナート共重合体を製造する方法であって、前記コバルト-シッフ塩基錯体が式(I)で表される化合物であることを特徴とする前記方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
4J029AA09
, 4J029AB04
, 4J029AC03
, 4J029AD09
, 4J029AE18
, 4J029BF30
, 4J029HC07
, 4J029JC291
, 4J029JF571
