特許
J-GLOBAL ID:201003065248866897

共役ジエンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-263952
公開番号(公開出願番号):特開2010-090082
出願日: 2008年10月10日
公開日(公表日): 2010年04月22日
要約:
【課題】モノオレフィンの接触酸化脱水素反応により共役ジエンを製造するに当たり、生成ガス中に含まれるアセチレン系炭化水素を分離するための抽出蒸留工程を省略し得る、或いは、この抽出蒸留の負荷を軽減し得る共役ジエンの製造方法を提供する。【解決手段】炭素原子数4以上のモノオレフィンを含む原料ガスと、分子状酸素含有ガスとを、反応器に供給し、触媒の存在下、酸化脱水素反応により対応する共役ジエンを含む生成ガスを得る反応工程を有する共役ジエンの製造方法において、該生成ガスのアセチレン系炭化水素濃度が0.016vol%以下であることを特徴とする共役ジエンの製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
炭素原子数4以上のモノオレフィンを含む原料ガスと、分子状酸素含有ガスとを、反応器に供給し、触媒の存在下、酸化脱水素反応により対応する共役ジエンを含む生成ガスを得る反応工程を有する共役ジエンの製造方法において、 該生成ガスのアセチレン系炭化水素濃度が0.016vol%以下であることを特徴とする共役ジエンの製造方法。
IPC (3件):
C07C 5/48 ,  C07C 11/167 ,  C07C 7/08
FI (3件):
C07C5/48 ,  C07C11/167 ,  C07C7/08
Fターム (27件):
4H006AA02 ,  4H006AC12 ,  4H006AD13 ,  4H006AD18 ,  4H006BA02 ,  4H006BA06 ,  4H006BA08 ,  4H006BA09 ,  4H006BA13 ,  4H006BA14 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA30 ,  4H006BA31 ,  4H006BA33 ,  4H006BA60 ,  4H006BA81 ,  4H006BB20 ,  4H006BB31 ,  4H006BC30 ,  4H006BD60 ,  4H006BD70 ,  4H006BD84 ,  4H006BE30 ,  4H039CA29 ,  4H039CC10
引用特許:
出願人引用 (5件)
  • 特開昭57-140730号公報
  • 特開昭60-1139号公報
  • 特開昭57-164730号公報
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