特許

J-GLOBAL ID：201003065463858331

多孔質シリカ粒子を調製するプロセス、その粒子およびその使用

発明者： オレリアン オジェール ,  オリヴィエール ポンセレ
出願人/特許権者： コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ
代理人 (1件)： 籾井 孝文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-040529
公開番号（公開出願番号）：特開2010-202505
出願日： 2010年02月25日
公開日（公表日）： 2010年09月16日
要約：

【課題】本発明の主題の1つは、水溶性の孔形成剤、例えばシクロデキストリン誘導体またはサッカリドを使用することを含む多孔質シリカ粒子を調製するプロセスである。その主題はまた、このプロセスによって調製できる多孔質シリカ粒子に関し、それら種々の使用および用途に関する。【解決手段】本発明は、水溶性孔形成剤を含むシリカ粒子を調製する工程;次いで前記孔形成剤を溶解により除去する工程で構成される工程を含む多孔質シリカ粒子の調製プロセスに関する。本発明はまた、このプロセスによって調製できる多孔質シリカ粒子、およびそれらの種々の使用および用途に関する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

-水溶性孔形成剤を含むシリカ粒子を調製する工程;次いで -前記孔形成剤を溶解により除去する工程 で構成される工程を含む多孔質シリカ粒子の調製プロセス。

IPC (1件)：

C01B 33/152

FI (1件)：

C01B33/152 B

Fターム (12件)：

4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072BB15 ,  4G072DD06 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ23 ,  4G072KK03 ,  4G072KK17 ,  4G072TT01 ,  4G072UU11 ,  4G072UU15

引用特許：

審査官引用 (2件)

• マイクロエマルジョンの制御された不安定化からの固体粒子
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-540458   出願人：オーストラリアンニュークリアサイエンスアンドテクノロジーオーガニゼーション
• 複合シリカマイクロカプセルの製造方法と複合シリカマイクロカプセルの芯物質の固定化と徐放作用の制御方法。
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-214328   出願人：日本ミリポア株式会社