特許

J-GLOBAL ID：201003069958047700

反射防止ハードマスク組成物およびそれを使用した基板上の材料のパターン化方法

発明者： ユン,キョン ホ ,  キム,チョン ソプ ,  ウ,ドン ソン ,  チョン,フヮン スン ,  オウ,チャン イル ,  キム,ミン ス ,  イ,ジン クク
出願人/特許権者： チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 八田国際特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-511100
公開番号（公開出願番号）：特表2010-529499
出願日： 2007年12月31日
公開日（公表日）： 2010年08月26日
要約：

本発明は、リソグラフィー工程に有効な反射防止性を有するハードマスク組成物を提供する。前記組成物は、非常に優れた光学的特性、機械的特性を提供すると同時に、スピンオン塗布技法を利用して塗布が可能な特性を提供する。特に、前記組成物は、ドライエッチング耐性が非常に優れている薄膜として、アスペクト比が高いパターンを形成することができるパターン形成用多層膜およびパターン形成方法を提供する。

請求項（抜粋）：

(a)式1、2および3:

IPC (2件)：

G03F 7/11 ,  C08G 61/02

FI (2件)：

G03F7/11 503 ,  C08G61/02

Fターム (18件)：

2H125AE04N ,  2H125AM61N ,  2H125AM79N ,  2H125AM84N ,  2H125AN05N ,  2H125AN39N ,  2H125AN85N ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125DA22 ,  2H125DA25 ,  4J032CA12 ,  4J032CA14 ,  4J032CA32 ,  4J032CB01 ,  4J032CB04 ,  4J032CB08