特許
J-GLOBAL ID：201003070837163735

凹凸パターン形成シート、光拡散体および光拡散体製造用工程シート原版およびそれらの製造方法

発明者：
岡安 俊樹

岡安 俊樹 について

, 
森 ゆき恵

森 ゆき恵 について


出願人/特許権者：
王子製紙株式会社

王子製紙株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-216844
公開番号（公開出願番号）：特開2010-102324
出願日： 2009年09月18日
公開日（公表日）： 2010年05月06日
要約：
【課題】 本発明は、光学特性(光拡散性等)に優れ、しかも光学特性を容易に不均一にできる光学シートおよびその製造方法を提供する。【解決手段】樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた樹脂からなる硬質層とを備え、該硬質層の表面全面に凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートであって、前記硬質層を構成する少なくとも1種類の樹脂のガラス転移温度Tg2と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Tg1との差(Tg2-Tg1)が10°C以上であり、かつ前記Tg1と、前記硬質層を構成する別の少なくとも1種類の樹脂のガラス転移温度Tg3との差(Tg1-Tg3)が10°C以上であり、前記硬質層を構成するガラス転移温度Tg2の樹脂とガラス転移温度Tg3の樹脂の割合が、連続的または段階的に変化することを特徴とする凹凸パターン形成シートである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた樹脂からなる 硬質層とを備え、該硬質層の表面全面に凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シー トであって、 前記硬質層を構成する少なくとも1種類の樹脂のガラス転移温度Tg2と、基材を構成す る樹脂のガラス転移温度Tg1との差(Tg2-Tg1)が10°C以上であり、かつ 前記Tg1と、前記硬質層を構成する別の少なくとも1種類の樹脂のガラス転移温度Tg 3との差(Tg1-Tg3)が10°C以上であり、 前記硬質層を構成するガラス転移温度Tg2の樹脂とガラス転移温度Tg3の樹脂の割合 が、連続的または段階的に変化することを特徴とする凹凸パターン形成シート。
IPC (3件)：
G02B 5/02 ,  F21V 3/00 ,  F21V 3/04
FI (3件)：
G02B5/02 C ,  F21V3/00 530 ,  F21V3/04 110
Fターム (3件)：
2H042BA04 ,  2H042BA14 ,  2H042BA15
引用特許：
出願人引用 (3件)

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