特許
J-GLOBAL ID：201003070882014554
植栽基盤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-216354
公開番号（公開出願番号）：特開2010-051175
出願日： 2008年08月26日
公開日（公表日）： 2010年03月11日
要約：
【課題】土壌の保水機能を高めることができ、容易に維持管理できる植栽基盤を提供すること。【解決手段】所定の地下水位を確保する保水部分である帯水層1上に砂層3を形成する。また、砂層3の地表面13および帯水層1から所定の距離をおいて、砂層3中に礫層5を埋設する。そして、砂層3および礫層5を貫通する灌水手段7を設置する。灌水手段7は、下端部9が帯水層1内に、上端部11が地表面13上に配置される。地表面13から砂層3aへ浸透した雨水や散水は、礫層5で浸透抑制されて礫層5の上方に位置する砂層3aに貯留される。灌水手段7は、砂層3aにおける水分蒸発や施肥による塩分濃度の上昇に対して、下端部9から帯水層1の水を汲み上げ、上端部11から地表面13に散水することにより、砂層3aに定期的に水の供給を行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
所定の地下水位を確保する保水部分と、
前記保水部分上に形成される砂層と、
地表面および前記保水部分から所定の距離をおいて、前記砂層中に埋設される礫層と、
前記砂層に散水可能な灌水手段と、
を具備することを特徴とする植栽基盤。
IPC (2件)：
FI (2件)：
A01G7/00 602C
, A01G25/00 601D
