特許

J-GLOBAL ID：201003071165228546

画像処理方法および放射線画像撮影装置

発明者： 浅野 洋介 ,  岩崎 信之
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-086615
公開番号（公開出願番号）：特開2010-233886
出願日： 2009年03月31日
公開日（公表日）： 2010年10月21日
要約：

【課題】撮影した画像の線欠陥に隣接して現れるスジ状の濃度むらを精度良く検出し、画像補正が必要な箇所に正確に画像補正することができる画像補正方法および放射線画像撮影装置を提供する。【解決手段】読み取り操作を行なわずに前記検出器の画像信号を読み取ることで得られる不活性データを取得し、この不活性データから線欠陥を検出する工程と、前記読み取り操作を行なって前記検出器の画像信号を読み取ることで得られる活性データを取得し、この活性データから線欠陥を検出する工程と、前記活性データで検出され、前記不活性データで検出されない線欠陥を着目線欠陥として検出し、この着目線欠陥に隣接する画素を、濃度むらを有する擬欠陥画素と認定する工程とを有することを特徴とする画像処理方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

一次元方向に接続されてなる画素列を、前記一次元方向と直交する方向に配列してなる検出器から出力された画像を処理するに際し、 読み取り操作を行なわずに前記検出器の画像信号を読み取ることで得られる不活性データを取得し、この不活性データから線欠陥を検出する工程と、 前記読み取り操作を行なって前記検出器の画像信号を読み取ることで得られる活性データを取得し、この活性データから線欠陥を検出する工程と、 前記活性データで検出され、前記不活性データで検出されない線欠陥を着目線欠陥として検出し、この着目線欠陥に隣接する画素を、濃度むらを有する擬欠陥画素と認定する工程とを有することを特徴とする画像処理方法。

IPC (4件)：

A61B 6/00 ,  H04N 5/32 ,  G01T 1/20 ,  G01T 1/24

FI (6件)：

A61B6/00 300S ,  H04N5/32 ,  A61B6/00 350A ,  G01T1/20 G ,  G01T1/24 ,  G01T1/20 E

Fターム (23件)：

2G088EE03 ,  2G088FF02 ,  2G088GG19 ,  2G088GG20 ,  2G088GG21 ,  2G088JJ05 ,  2G088KK07 ,  2G088KK32 ,  2G088LL11 ,  4C093AA01 ,  4C093CA13 ,  4C093EB12 ,  4C093EB13 ,  4C093FC19 ,  4C093FD09 ,  4C093FD13 ,  4C093FF05 ,  4C093FF06 ,  4C093FF16 ,  5C024AX11 ,  5C024CX21 ,  5C024DX04 ,  5C024HX14