特許

J-GLOBAL ID：201003071385567589

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物

発明者： 太宰 尚宏 ,  塩野 大寿 ,  平野 智之 ,  松宮 祐 ,  竹下 優
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-014713
公開番号（公開出願番号）：特開2010-170056
出願日： 2009年01月26日
公開日（公表日）： 2010年08月05日
要約：

【課題】有機溶剤への溶解性に優れ、良好なリソグラフィー特性を示す高分子化合物、当該高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)及び酸発生剤成分(B)を有機溶剤(S)に溶解してなり、基材成分(A)が、スルホニル基を含む環式基を側鎖に含有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a0)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、特定構造を有する(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a5)とを有する高分子化合物(A1)を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を有機溶剤(S)に溶解してなるポジ型レジスト組成物であって、 前記基材成分(A)が、 下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)と、 酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、 下記一般式(a5-1)で表される構成単位(a5)とを有する高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/40 ,  C08F 220/12 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/40 511 ,  C08F220/12 ,  H01L21/30 502R

Fターム (56件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA33 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA05 ,  2H096JA02 ,  2H096JA04 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02P ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA22R ,  4J100BA40S ,  4J100BA58Q ,  4J100BB18S ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC08S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC12P ,  4J100BC53R ,  4J100BC84Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38