特許

J-GLOBAL ID：201003071723519315

偏光子

発明者： 浅野 功輔 ,  伊佐野 太輔 ,  金田 泰
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-291105
公開番号（公開出願番号）：特開2010-117577
出願日： 2008年11月13日
公開日（公表日）： 2010年05月27日
要約：

【課題】 深紫外波長の光に対してより偏光制御性能の高い偏光子を提供する。【解決手段】 深紫外光を透過する基板1と、基板1の上に所定の間隔で形成された複数の構造部で構成される周期構造体2を備え、入射した深紫外光を偏光方向に応じて周期構造体2で反射する反射光と隣り合う構造部の間を透過する透過光とに分離する偏光子であって、周期構造体はタングステンまたは酸化クロムによって形成されている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

深紫外光を透過する基板と、前記基板上に所定の間隔で形成された複数の構造部で構成される周期構造体を備え、入射した深紫外光を偏光方向に応じて前記周期構造体で反射する反射光と隣り合う前記構造部の間を透過する透過光とに分離する偏光子において、 前記周期構造体はタングステンまたは酸化クロムによって形成されていることを特徴とする偏光子。

IPC (1件)：

G02B 5/30

FI (1件)：

G02B5/30

Fターム (11件)：

2H149AA02 ,  2H149AA21 ,  2H149AA22 ,  2H149AB01 ,  2H149AB06 ,  2H149BA04 ,  2H149BA23 ,  2H149BB28 ,  2H149FA41W ,  2H149FA42Z ,  2H149FD46

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ワイヤグリッド偏光板及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-274175   出願人：旭化成株式会社