特許
J-GLOBAL ID:201003072169159677
フリーラジカル後架橋された吸着剤および製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-130332
公開番号(公開出願番号):特開2010-007069
出願日: 2009年05月29日
公開日(公表日): 2010年01月14日
要約:
【課題】従来の吸着剤の欠点を克服すること、並びに高度に架橋した吸着剤の吸着および脱着性能の双方を向上させる。【解決手段】後架橋された吸着剤が(a)少なくとも55重量%の少なくとも1種のポリビニル芳香族モノマーおよび(b)45重量%までの少なくとも1種のモノビニル芳香族モノマーのモノマー単位;並びに0.5〜2.5mmol/gのペンダントビニル基;を含み;乾燥した吸着剤が約650〜1000m2/gの範囲のBET比表面積、7.2〜10nmのBET平均細孔直径、1.29〜2.45mL/gのBET多孔度を有し、BJH吸着マイクロ細孔容積が全BJH吸着細孔容積の20%未満であり、およびHKマイクロ細孔容積が全BJH吸着細孔容積の21%未満である。本発明は、当該ポリマー系吸着剤の製造方法にも関する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
後架橋された吸着剤であって、
(a)少なくとも55重量%の少なくとも1種のポリビニル芳香族モノマーおよび(b)45重量%までの少なくとも1種のモノビニル芳香族モノマーのモノマー単位;並びに
0.5〜2.5mmol/gのペンダントビニル基;
を含み;
乾燥した吸着剤が約650〜1000m2/gの範囲のBET比表面積、7.2〜10nmのBET平均細孔直径、1.29〜2.45mL/gのBET多孔度を有し、BJH吸着マイクロ細孔容積が全BJH吸着細孔容積の20%未満であり、およびHKマイクロ細孔容積が全BJH吸着細孔容積の21%未満である;
後架橋された吸着剤。
IPC (3件):
C08F 212/36
, C08F 8/00
, B01J 20/26
FI (3件):
C08F212/36
, C08F8/00
, B01J20/26 Z
Fターム (27件):
4G066AB01D
, 4G066AB02D
, 4G066AB03A
, 4G066AB03D
, 4G066AB05D
, 4G066AB06D
, 4G066AB10D
, 4G066AB21D
, 4G066AC14B
, 4G066AC35B
, 4G066BA23
, 4G066BA25
, 4G066BA26
, 4G066CA01
, 4G066FA03
, 4G066FA08
, 4G066FA21
, 4J100AB04Q
, 4J100AB16P
, 4J100CA04
, 4J100CA31
, 4J100FA21
, 4J100HA53
, 4J100HC05
, 4J100HC36
, 4J100HE13
, 4J100JA17
引用特許:
引用文献:
前のページに戻る