特許
J-GLOBAL ID：201003072327323498
フォトマスクブランクス及びフォトマスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-047300
公開番号（公開出願番号）：特開2010-204214
出願日： 2009年02月27日
公開日（公表日）： 2010年09月16日
要約：
【課題】遮光材料を大量に含有する場合であっても、露光により高感度で硬化し、細線の太りが抑制された高解像度の画像を形成しうるフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、高解像度な遮光層を有するフォトマスクを提供する。【解決手段】透明基板上に、(A)重合開始剤、(B)エチレン性不飽和結合を有する化合物、(C)バインダーポリマー、及び、(D)遮光材料、を含む感光性組成物層を有し、透明基板日の感光性組成物層を有しない面に反射防止層を備えるフォトマスクブランクスであり、該反射防止層は水溶性ポリマーを含有し、波長405nmにおける分光濃度が1.5以上3.0以下であることが好ましい。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
透明基板上に、(A)重合開始剤、(B)エチレン性不飽和結合を有する化合物、(C)バインダーポリマー、及び、(D)遮光材料、を含む感光性組成物層を有し、透明基板の感光性組成物層を有しない面に反射防止層を備えるフォトマスクブランクス。
IPC (3件)：
G03F 1/14
, G03F 1/08
, H01L 21/027
G03F1/14 F
, G03F1/08 L
, H01L21/30 502P
