特許

J-GLOBAL ID：201003072776166909

粒子線ビーム照射装置およびレンジシフタ

発明者： 井関 康 ,  笠井 茂 ,  金井 芳治 ,  末武 則夫
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (2件)： 菊池 治 ,  大胡 典夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-035111
公開番号（公開出願番号）：特開2010-187900
出願日： 2009年02月18日
公開日（公表日）： 2010年09月02日
要約：

【課題】粒子線ビームを被照射体に照射する場合に、被照射領域の深さ方向のサイズが大きい場合も、深さ方向の位置に対してビームサイズの変化を小さくする。【解決手段】粒子線ビーム照射装置に、粒子線ビームのエネルギーを減衰させる板の集合体であって、iを1以上n以下の連続する自然数としたときに単位板厚tと2の(i-1)乗との積t×(i-1)2で表される厚さの板20〜29の群と、t×(n-1)2で表される厚さの2枚の板30と、を持つレンジシフタ20を備える。それぞれの板20〜30は、粒子線ビームの進行方向34に垂直に設けられ、それぞれ独立して粒子線ビームの行路を遮る位置に移動可能に設けられている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被照射体に粒子線ビームを照射する粒子線ビーム照射装置において、 前記粒子線ビームを発生する粒子線発生器と、 前記粒子線ビームのエネルギーを減衰させる板の集合体であって、iを1以上n以下の連続する自然数としたときに単位板厚tと2の(i-1)乗との積t×(i-1)2で表される厚さの板群と、t×(n-1)2で表される厚さの2枚の板と、を含み、それぞれの板が独立して前記粒子線ビームの行路を遮る位置に移動可能に設けられたレンジシフタと、 を有することを特徴とする粒子線ビーム照射装置。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (1件)：

A61N5/10 N

Fターム (8件)：

4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG12 ,  4C082AG24 ,  4C082AG35 ,  4C082AG42 ,  4C082AR02