特許
J-GLOBAL ID：201003074512656498
シリコーン積層基板、その製造方法、シリコーン積層基板製造用シリコーン樹脂組成物及びLED装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-200005
公開番号（公開出願番号）：特開2010-089493
出願日： 2009年08月31日
公開日（公表日）： 2010年04月22日
要約：
【課題】機械的特性、可撓性、加工性に優れ、表面のタックが少なく、取り扱いが容易なシリコーン積層基板、その製造方法、シリコーン積層基板製造用シリコーン樹脂組成物及びLED装置を提供する。【解決手段】ガラスクロスと、該ガラスクロス中に充填され、かつ、該ガラスクロス表面を被覆するシリコーン樹脂組成物の硬化物と、を有し、該組成物がA.特定のシロキサン単位からなる樹脂構造のオルガノポリシロキサン、B.特定のシロキサン単位からなる樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサン、C.白金族金属系触媒、及びD.充填剤、を含むシリコーン積層基板;上記組成物を溶剤に溶解・分散された状態でガラスクロスに含浸させ、該ガラスクロスから該溶剤を蒸発させて除去し、該ガラスクロスに含浸された該組成物を加圧成型下で加熱硬化させることを含む上記基板の製造方法;上記A〜D成分を含むシリコーン積層基板製造用シリコーン樹脂組成物。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ガラスクロスと、
該ガラスクロス中に充填され、かつ、該ガラスクロス表面を被覆するシリコーン樹脂組成物の硬化物と
を有してなるシリコーン積層基板であって、
前記シリコーン樹脂組成物が
(A)R1SiO1.5単位、R22SiO単位及びR3aR4bSiO(4-a-b)/2単位からなり(ここで、R1、R2及びR3は独立に水酸基、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を示し、R4は独立にビニル基又はアリル基を示し、aは0,1又は2で、bは1又は2で、かつa+bは2又は3である。)、
上記R22SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜50個である構造を含む樹脂構造のオルガノポリシロキサン、
(B)R1SiO1.5単位、R22SiO単位及びR3cHdSiO(4-c-d)/2単位からなり(ここで、R1、R2及びR3は独立に上記の通りであり、cは0,1又は2で、dは1又は2で、かつc+dは2又は3である。)、
上記R22SiO単位の少なくとも一部が連続して繰り返してなり、その繰り返し数が5〜50個である構造を含む樹脂構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサン:(A)成分中のビニル基及びアリル基の合計に対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子がモル比で0.1〜4.0となる量、
(C)白金族金属系触媒:有効量、ならびに
(D)充填剤:(A)及び(B)成分の合計100質量部に対して900質量部以下
を含むシリコーン樹脂組成物である上記シリコーン積層基板。
IPC (6件)：
B32B 17/04
, B32B 27/00
, C08L 83/05
, C08L 83/07
, C08K 3/22
, H05K 1/03
B32B17/04 A
, B32B27/00 101
, C08L83/05
, C08L83/07
, C08K3/22
, H05K1/03 610H
, H05K1/03 610R
4F100AA21A
, 4F100AA21B
, 4F100AB24A
, 4F100AB24B
, 4F100AG00A
, 4F100AK52A
, 4F100AK52B
, 4F100BA02
, 4F100CA13A
, 4F100CA13B
, 4F100CA23A
, 4F100CA23B
, 4F100DG11A
, 4F100EJ17
, 4F100EJ42
, 4F100GB41
, 4F100JK17
, 4F100JL01
, 4F100JL05
, 4F100JL08A
, 4F100JL08B
, 4F100YY00A
, 4F100YY00B
, 4J002CP04W
, 4J002CP14X
, 4J002DE107
, 4J002DE137
, 4J002DJ016
, 4J002FD016
, 4J002FD097
, 4J002GQ00
