特許

J-GLOBAL ID：201003074578342354

レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レーザー彫刻用樹脂組成物、レリーフ印刷版、およびレリーフ印刷版の製造方法

発明者： 吉田 健太
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (3件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-050696
公開番号（公開出願番号）：特開2010-247527
出願日： 2010年03月08日
公開日（公表日）： 2010年11月04日
要約：

【課題】製膜したときの膜物性が良好で、またレリーフ形成層に適用した場合の形成された印刷版のインキ転移性および耐刷性に優れ、さらにレーザー彫刻に供した際の彫刻感度が高いレーザー彫刻用樹脂組成物を提供することにある。【解決手段】(A)分子内に2個以上のイソシアナート基を有する化合物と、(B)ヒドロキシ基および-NHRからなる群より選択される置換基を1種以上有する高分子化合物と、を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を架橋させてなるレリーフ形成層を備えるレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。Rは水素原子、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、または複素環基を表す。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)分子内に2個以上のイソシアナート基を有する化合物と、(B)ヒドロキシ基および-NHRからなる群より選択される置換基を1種以上有する高分子化合物と、を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を架橋させてなるレリーフ形成層を備えるレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。 (Rは水素原子、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、または複素環基を表す。)

IPC (4件)：

B41N 1/12 ,  B41C 1/05 ,  C08G 18/40 ,  C08G 18/65

FI (4件)：

B41N1/12 ,  B41C1/05 ,  C08G18/40 ,  C08G18/65 D

Fターム (62件)：

2H084AA05 ,  2H084AA32 ,  2H084BB04 ,  2H084BB05 ,  2H084CC01 ,  2H114AA01 ,  2H114AA24 ,  2H114AA27 ,  2H114BA10 ,  2H114DA51 ,  2H114DA52 ,  2H114DA73 ,  2H114EA02 ,  2H114EA03 ,  2H114EA06 ,  2H114EA08 ,  2H114EA10 ,  2H114FA02 ,  2H114FA06 ,  2H114FA08 ,  2H114FA10 ,  2H114FA13 ,  2H114FA14 ,  4J034BA08 ,  4J034CA03 ,  4J034CA04 ,  4J034CA05 ,  4J034CA15 ,  4J034CA32 ,  4J034CB02 ,  4J034CB04 ,  4J034CB05 ,  4J034CB07 ,  4J034CC03 ,  4J034CC08 ,  4J034CC10 ,  4J034DB05 ,  4J034DC02 ,  4J034DC50 ,  4J034DJ08 ,  4J034DP03 ,  4J034DP06 ,  4J034DP17 ,  4J034DP18 ,  4J034HA01 ,  4J034HA02 ,  4J034HA07 ,  4J034HC03 ,  4J034HC12 ,  4J034HC61 ,  4J034HC64 ,  4J034HC67 ,  4J034HC71 ,  4J034JA21 ,  4J034JA42 ,  4J034MA02 ,  4J034MA13 ,  4J034MA18 ,  4J034QB03 ,  4J034RA13 ,  4J034RA16 ,  4J034RA19

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 樹脂印刷版、該樹脂印刷版の製造方法及び該樹脂印刷版を用いた印刷方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-202347   出願人：大日本印刷株式会社