特許

J-GLOBAL ID：201003075007295657

メソポーラス酸化チタン膜およびその製造方法

発明者： 久保 亘 ,  宮田 浩克 ,  高本 篤史
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-026740
公開番号（公開出願番号）：特開2010-180113
出願日： 2009年02月06日
公開日（公表日）： 2010年08月19日
要約：

【課題】基板表面に対し、孔の配向方向が傾斜しているメソポーラス酸化チタン膜およびその製造方法を提供する。【解決手段】基板上に形成されたメソポーラス酸化チタン膜であって、傾斜して配向しているシリンダー状の孔を有し、前記孔の配向方向のなす配向角度が基板面に対して10度以上80度以下の範囲であり、かつ前記孔の配向方向を基板上に射影した射影方向が基板面内にわたって一定方向に配向しているメソポーラス酸化チタン膜。両親媒性物質の集合体を所定の方向に配向させる機能を有する基板を準備する工程と、酸化チタンの前駆体物質と両親媒性物質と水とを含有する反応溶液を準備する工程と、前記基板上に前記反応溶液を塗布して上記のメソポーラス酸化チタン膜を形成する工程とを有するメソポーラス酸化チタン膜の製造方法。【選択図】図1(b)

請求項（抜粋）：

基板上に形成されたメソポーラス酸化チタン膜であって、傾斜して配向しているチューブ状の孔を有し、前記孔の配向方向のなす配向角度が基板面に対して10度以上80度以下の範囲であり、かつ前記孔の配向方向を基板上に射影した射影方向が基板面内にわたって一定方向に配向していることを特徴とするメソポーラス酸化チタン膜。

IPC (4件)：

C01B 37/00 ,  C01G 23/04 ,  C01G 23/053 ,  G02B 5/30

FI (4件)：

C01B37/00 ,  C01G23/04 C ,  C01G23/053 ,  G02B5/30

Fターム (27件)：

2H149AA02 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DA29 ,  2H149DB38 ,  2H149FA43Y ,  2H149FD01 ,  4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CB09 ,  4G047CD02 ,  4G073BA20 ,  4G073BA75 ,  4G073BB28 ,  4G073BB58 ,  4G073BB59 ,  4G073BD18 ,  4G073CZ60 ,  4G073FA01 ,  4G073FC18 ,  4G073FC30 ,  4G073FD24 ,  4G073GA03 ,  4G073GB02 ,  4G073UA01 ,  4G073UB11 ,  4G073UB14