特許

J-GLOBAL ID：201003075611221831

感光性組成物、およびそれを用いたパターン形成方法

発明者： 山田 有紗 ,  服部 繁樹
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (21件)： 鈴江 武彦 ,  蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  風間 鉄也 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-246448
公開番号（公開出願番号）：特開2010-077063
出願日： 2008年09月25日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：

【課題】高い感度と解像性を備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物の提供。【解決手段】溶剤と(2-ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタノール誘導体でアモルファス性を示す、例えば4-(4'''-{2-[ヒドロキシ-(2-ヒドロキシフェニル)-フェニル-メチル]}[1,1’;4’,1”]ビフェニル)-(2-ヒドロキシフェニル)-フェニル-メタノールや下式で示される化合物をマトリックス化合物として含有する感光性組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表わされる構造を含み、アモルファス性を示すことを特徴とする感光性化合物。

IPC (3件)：

C07C 39/12 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C07C39/12 ,  G03F7/004 521 ,  G03F7/004 531 ,  H01L21/30 502R

Fターム (21件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC07 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BD02 ,  2H025BE07 ,  2H025BH03 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB76 ,  4H006AC41 ,  4H006FC50 ,  4H006FE11 ,  4H006FE13

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 電子線レジスト、レジストパターンの形成方法及び微細パターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-059547   出願人：工業技術院長