支持体から物質を除去する方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 永坂友康 , 小林良博 , 出野知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-020903
公開番号（公開出願番号）：特開2010-157749
出願日： 2010年02月02日
公開日（公表日）： 2010年07月15日
要約：

【課題】物質、そして好ましくはホトレジスト、を支持体から除去する。【解決手段】3つのオリフィスノズルからの液体のスプレーの方向を変える。a)i)十分な圧力下で液体源から液体を供給され、そこから液体の流れを噴出する第1オリフィス124;ii)ガス源からガスを制御された圧力で供給されてガスの流れを噴出し、少なくとも部分的に液体の流れを偏向させる、第1ガスオリフィス130;iii)第2ガス源から第2ガスを制御された圧力で供給されてガスの流れを噴出し、少なくとも部分的に液体の流れを偏向させる、第2ガスオリフィス140、を有するノズルを装備し;そしてb)中央オリフィス124からの液体の流れに方向を付与するように第1ガスオリフィス130及び第2ガスオリフィス140の少なくとも1つのガス流の流れを修正することにより、ノズル122からの液体のスプレー方向を調節する。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

次の工程を含む、3つのオリフィスノズルからの液体のスプレーの方向を変えるための方法: a)i)十分な圧力下で液体源から液体を供給され、そこから液体の流れを噴出する第1オリフィス; ii)ガス源からガスを供給される第1ガスオリフィスであって、該ガスは制御された圧力で供給されて該第1ガスオリフィスからガスの流れを噴出し、少なくとも部分的に液体の流れを偏向させる、第1ガスオリフィス; iii )第2ガス源から第2ガスを供給される第2ガスオリフィスであって、該ガスは制御された圧力で供給されて該第2ガスオリフィスからガスの流れを噴出し、少なくとも部分的に液体の流れを偏向させる、第2ガスオリフィス、を有するノズルを装備し;そして b)該中央オリフィスからの液体の流れに方向を付与するように第1ガスオリフィス及び第2ガスオリフィスの少なくとも1つのガス流の流れを修正することにより、該ノズルからの液体のスプレー方向を調節する。

IPC (6件)：

H01L 21/304 , H01L 21/027 , B08B 3/08 , B08B 3/02 , G03F 7/42 , B05D 1/02

FI (10件)：

H01L21/304 643C , H01L21/30 572B , H01L21/304 647Z , H01L21/304 643A , H01L21/304 645B , H01L21/304 648G , B08B3/08 A , B08B3/02 D , G03F7/42 , B05D1/02 Z

Fターム (45件)：

2H096AA25 , 2H096JA04 , 2H096LA02 , 3B201AA03 , 3B201AB34 , 3B201AB42 , 3B201BB23 , 3B201BB33 , 3B201BB38 , 3B201BB82 , 3B201BB88 , 3B201BB96 , 3B201CA03 , 3B201CB01 , 3B201CD43 , 4D075AA02 , 4D075AA22 , 4D075AA85 , 5F046MA05 , 5F046MA06 , 5F157AA42 , 5F157AA64 , 5F157AA91 , 5F157AB02 , 5F157AB03 , 5F157AB14 , 5F157AB33 , 5F157AB90 , 5F157AC01 , 5F157AC13 , 5F157BB12 , 5F157BB23 , 5F157BB37 , 5F157BB66 , 5F157BC03 , 5F157BC12 , 5F157BC31 , 5F157BG86 , 5F157BH21 , 5F157CE24 , 5F157CE72 , 5F157DB02 , 5F157DB03 , 5F157DB17 , 5F157DC31

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