特許
J-GLOBAL ID:201003076556463959

セラミックスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 布施 行夫 ,  大渕 美千栄 ,  永田 美佐
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-178244
公開番号(公開出願番号):特開2010-018452
出願日: 2008年07月08日
公開日(公表日): 2010年01月28日
要約:
【課題】焼結温度を低温化するセラミックスの製造方法を提供すること。【解決手段】本発明に係るセラミックス膜の製造方法は、セラミックス粒子からなる第1粒子を準備する工程と、前記第1粒子の体積基準のメジアン径(d50)よりも小さい体積基準のメジアン径(d50)の粒度分布を持つセラミックス粒子からなる第2粒子を準備する工程と、前記第1粒子と前記第2粒子とを含む混合物を得る工程と、前記混合物を含む成形体を得る工程と、前記成形体を熱処理する工程と、を含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
セラミックス粒子からなる第1粒子を準備する工程と、 前記第1粒子の体積基準のメジアン径(d50)よりも小さい体積基準のメジアン径(d50)の粒度分布を持つセラミックス粒子からなる第2粒子を準備する工程と、 前記第1粒子と前記第2粒子とを含む混合物を得る工程と、 前記混合物を含む成形体を得る工程と、 前記成形体を熱処理する工程と、 を含む、セラミックスの製造方法。
IPC (1件):
C04B 35/622
FI (1件):
C04B35/00 G
Fターム (4件):
4G030BA01 ,  4G030CA08 ,  4G030GA11 ,  4G030GA20
引用特許:
出願人引用 (1件)

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