特許
J-GLOBAL ID：201003077936684342
ポリマー表面上にマイクロ流体システムを製造する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
河村 洌
, 藤森 洋介
, 谷 征史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-513864
公開番号（公開出願番号）：特表2010-532269
出願日： 2008年06月20日
公開日（公表日）： 2010年10月07日
要約：
本発明は、ポリマー表面上にマイクロ流体システムを製造する方法に関し、ここで、ポリマー表面の少なくとも1つの部分が、狙いを定めてレーザー光で照射され、これは、ポリマー表面のこの1つの部分の液体試料による湿潤性を、部分的に分解して修正するために行われる。
請求項（抜粋）：
ポリマー表面上にマイクロ流体システムを製造する方法において、前記ポリマー表面の少なくとも1つの部分に、狙いを定めてレーザー光を照射し、前記ポリマー表面の前記1つの部分における液体試料による湿潤性を、部分的に分解して修正するために行われることを特徴とする方法。
IPC (4件)：
B81C 99/00
, G01N 37/00
, G01N 35/08
, B01J 19/00
B81C5/00
, G01N37/00 101
, G01N35/08 A
, B01J19/00 321
2G058EA14
, 3C081AA18
, 3C081BA23
, 3C081CA17
, 3C081CA40
, 3C081DA10
, 3C081EA26
, 4G075AA39
, 4G075AA56
, 4G075BA10
, 4G075DA02
, 4G075FA01
, 4G075FB12
, 4G075FC20
