特許
J-GLOBAL ID：201003078276740291
基板搬送装置及び基板処理システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
金本 哲男
, 亀谷 美明
, 萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-035579
公開番号（公開出願番号）：特開2010-192684
出願日： 2009年02月18日
公開日（公表日）： 2010年09月02日
要約：
【課題】基板の搬送を行うにあたり、基板にパーティクルが付着することを抑制し、基板の処理システムで製造される製品の歩留まりを向上させる。【解決手段】基板搬送装置は、内部に基板を収容し、側面に基板の搬入出口98が形成された基板収容容器91と、基板収容容器内91の基板Wの裏面に向けて所定のガスを噴射するガス噴射部92と、ガス噴射部92から供給される前記所定のガスの供給量を調整し記基板収容容器内91の基板Wを所定の高さに制御する制御部93と、を有している。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板の搬送装置であって、
内部に基板を収容し、側面に基板の搬入出口が形成された基板収容容器と、
前記基板収容容器内の基板の裏面に向けて所定のガスを噴射するガス噴射部と、
前記ガス噴射部から供給される前記所定のガスの供給量を調整し、前記基板収容容器内の基板を所定の高さに制御する制御部と、を有することを特徴とする、基板搬送装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (10件)：
5F031CA02
, 5F031DA08
, 5F031EA14
, 5F031EA19
, 5F031EA20
, 5F031FA03
, 5F031MA26
, 5F031MA27
, 5F031NA04
, 5F031NA13
