特許

J-GLOBAL ID：201003078511390040

感活性光線または感放射線性樹脂組成物、およびこれを用いたパターン形成方法

発明者： 西川 尚之 ,  山下 克宏 ,  高橋 秀知
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (21件)： 鈴江 武彦 ,  蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  風間 鉄也 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-018782
公開番号（公開出願番号）：特開2010-175859
出願日： 2009年01月29日
公開日（公表日）： 2010年08月12日
要約：

【課題】超微細領域での、特に、電子線、X線またはEUV光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、および良好なラインエッジラフネスを同時に満足するパターンを形成可能な感活性光線または感放射線性樹脂組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】(A)酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解速度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)製膜により膜表面に偏在する化合物、を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線性樹脂組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解速度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)製膜により膜表面に偏在する化合物、 を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線性樹脂組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039

FI (2件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601

Fターム (19件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BF15 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17