特許
J-GLOBAL ID:201003078515846374
インクジェット記録媒体及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-230218
公開番号(公開出願番号):特開2010-064280
出願日: 2008年09月08日
公開日(公表日): 2010年03月25日
要約:
【課題】高速風乾燥適性、画像の光沢度向上、脆性低減及び重ねムラ低減が可能なインクジェット記録媒体及び製造方法を提供する。【解決手段】非吸収性支持体上に該非吸収性支持体側から順に、気相法シリカ、鹸化度90mol%以上のポリビニルアルコール(特定PVA)、ホウ素化合物、及び水溶性ジルコニウム塩(Zr塩)を含有する第1のインク受容層(第1層)と、気相法シリカ、特定PVA、ホウ素化合物、及び沸点が120°C以上の水溶性有機溶剤(特定有機溶剤)を含有する第2のインク受容層(第2層)とを有し、第2層では、Zr塩の含有量が第1層中のZr塩の含有量よりも少なく、Zr塩の含有量が気相法シリカの含有量に対して0.6質量%以下であり、第1層では、特定有機溶剤の含有量が第2層中の特定有機溶剤の含有量よりも少なく、特定有機溶剤の含有量が気相法シリカの含有量に対して2質量%以下であるインクジェット記録媒体である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
非吸収性支持体上に該非吸収性支持体側から順に、気相法シリカと、鹸化度90mol%以上のポリビニルアルコールと、ホウ素化合物と、水溶性ジルコニウム塩とを含有する第1のインク受容層と、気相法シリカと、鹸化度90mol%以上のポリビニルアルコールと、ホウ素化合物と、沸点が120°C以上の水溶性有機溶剤とを含有する第2のインク受容層とを有し、
前記第2のインク受容層中の水溶性ジルコニウム塩の含有量が、前記第1のインク受容層中の水溶性ジルコニウム塩の含有量よりも少なく、かつ、前記第2のインク受容層が水溶性ジルコニウム塩を含有するときには、前記第2のインク受容層中の水溶性ジルコニウム塩の含有量が、前記第2のインク受容層中の気相法シリカの含有量に対して0.6質量%以下であり、
前記第1のインク受容層中の沸点が120°C以上の水溶性有機溶剤の含有量が、前記第2のインク受容層中の沸点が120°C以上の水溶性有機溶剤の含有量よりも少なく、かつ、前記第1のインク受容層が、沸点が120°C以上の水溶性有機溶剤を含有するときには、前記第1のインク受容層中の沸点が120°C以上の水溶性有機溶剤の含有量が、前記第1のインク受容層中の気相法シリカの含有量に対して2質量%以下であるインクジェット記録媒体。
IPC (4件):
B41M 5/00
, B41M 5/50
, B41M 5/52
, B41J 2/01
FI (2件):
B41M5/00 B
, B41J3/04 101Y
Fターム (59件):
2C056EA04
, 2C056EA13
, 2C056FC06
, 2H186BA12
, 2H186BA13
, 2H186BB14X
, 2H186BB14Y
, 2H186BB14Z
, 2H186BB24X
, 2H186BB24Y
, 2H186BB24Z
, 2H186BB28X
, 2H186BB28Y
, 2H186BB28Z
, 2H186BB31X
, 2H186BB31Y
, 2H186BB31Z
, 2H186BB32X
, 2H186BB32Y
, 2H186BB32Z
, 2H186BB36X
, 2H186BB36Y
, 2H186BB36Z
, 2H186BB44X
, 2H186BB44Y
, 2H186BB44Z
, 2H186BB52X
, 2H186BB52Y
, 2H186BB52Z
, 2H186BC01X
, 2H186BC01Y
, 2H186BC01Z
, 2H186BC26X
, 2H186BC26Y
, 2H186BC26Z
, 2H186BC28X
, 2H186BC34X
, 2H186BC34Y
, 2H186BC34Z
, 2H186BC36X
, 2H186BC36Y
, 2H186BC36Z
, 2H186BC52X
, 2H186BC52Y
, 2H186BC52Z
, 2H186BC54X
, 2H186BC54Y
, 2H186BC54Z
, 2H186BC69X
, 2H186BC69Y
, 2H186BC69Z
, 2H186BC78X
, 2H186BC78Y
, 2H186BC78Z
, 2H186CA04
, 2H186CA06
, 2H186CA07
, 2H186DA13
, 2H186DA19
引用特許:
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