特許

J-GLOBAL ID：201003078979495442

光学フィルムの製造方法、光学フィルムの製造装置、光学フィルムおよび液晶表示装置

発明者： 木暮 翠 ,  田中 武志
出願人/特許権者： コニカミノルタオプト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-282968
公開番号（公開出願番号）：特開2010-112986
出願日： 2008年11月04日
公開日（公表日）： 2010年05月20日
要約：

【課題】本発明の目的は、ロール状フィルムにおける加工においても、配向レベルの高い液晶化合物の配向方法を含む光学フィルムの製造方法、およびその製造方法のための製造装置を提供すること、つまり視野角に優れた光学フィルムの製造方法、製造装置を提供することにある。【解決手段】支持体上に液晶化合物を硬化させてなる光学異方性層を有する光学フィルムの製造方法において、支持体上または中間層上に液晶化合物を塗設する工程、塗設した液晶化合物層に第1の磁場印加工程、活性線により液晶化合物を硬化する第1の工程、第2の磁場印加工程、活性線により液晶化合物を硬化する第2の工程、をこの順で有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

支持体上に液晶化合物を硬化させてなる光学異方性層を有する光学フィルムの製造方法において、支持体上または中間層上に液晶化合物を塗設する工程、塗設した液晶化合物層に第1の磁場印加工程、活性線により液晶化合物を硬化する第1の工程、第2の磁場印加工程、活性線により液晶化合物を硬化する第2の工程、をこの順で有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/133 ,  B05D 3/06

FI (3件)：

G02B5/30 ,  G02F1/13363 ,  B05D3/06 Z

Fターム (38件)：

2H149AA04 ,  2H149AA07 ,  2H149AB05 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB07 ,  2H149DB15 ,  2H149FA02X ,  2H149FA02Z ,  2H149FA03W ,  2H149FA08Z ,  2H149FA24Y ,  2H149FA51Z ,  2H149FA58Y ,  2H149FA58Z ,  2H149FA63 ,  2H191FA22X ,  2H191FA22Z ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FA94X ,  2H191FA94Z ,  2H191FB05 ,  2H191FC08 ,  2H191FC09 ,  2H191FC31 ,  2H191FC32 ,  2H191FC33 ,  2H191HA06 ,  2H191LA04 ,  2H191LA06 ,  2H191LA13 ,  2H191PA02 ,  2H191PA22 ,  4D075BB42Z ,  4D075BB81Z ,  4D075DB31 ,  4D075DC24

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 楕円偏光板および液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-287402   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 偏光素子、偏光板および液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-233498   出願人：富士写真フイルム株式会社