特許

J-GLOBAL ID：201003079114839290

高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物

発明者： 平野 朋広 ,  右手 浩一 ,  佐藤 恒之 ,  原口 将幸 ,  大土井 啓祐
出願人/特許権者： 国立大学法人徳島大学 ,  日産化学工業株式会社
代理人 (9件)： 萼 経夫 ,  宮崎 嘉夫 ,  加藤 勉 ,  小山 京子 ,  小野塚 薫 ,  田上 明夫 ,  ▲高▼ 昌宏 ,  森 則雄 ,  山田 清治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-186586
公開番号（公開出願番号）：特開2010-024330
出願日： 2008年07月17日
公開日（公表日）： 2010年02月04日
要約：

【課題】高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物を提供すること。【解決手段】 本発明の高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物は、分子内に2個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーAと、分子内に酸分解性基および1個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーBを、該ラジカル重合性モノマーAおよび該ラジカル重合性モノマーBの合計モル数に対して5モル%以上200モル%以下の重合開始剤Cの存在下で重合させることにより得られる高分岐ポリマーを含有することを特徴とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

分子内に2個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーAと、分子内に酸分解性基および1個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーBを、該ラジカル重合性モノマーAおよび該ラジカル重合性モノマーBの合計モル数に対して5モル%以上200モル%以下の重合開始剤Cの存在下で重合させることで得られる高分岐ポリマー。

IPC (4件)：

C08F 212/36 ,  C08F 220/18 ,  C08F 8/12 ,  G03F 7/039

FI (4件)：

C08F212/36 ,  C08F220/18 ,  C08F8/12 ,  G03F7/039 601

Fターム (44件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB15P ,  4J100AB16P ,  4J100AE64P ,  4J100AE69P ,  4J100AE70P ,  4J100AE71P ,  4J100AF11P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL66P ,  4J100AL75P ,  4J100AL92P ,  4J100AP17P ,  4J100AR16P ,  4J100AR17P ,  4J100AR18P ,  4J100AR21P ,  4J100AS01P ,  4J100AS02P ,  4J100AS03P ,  4J100AS04P ,  4J100BA16H ,  4J100BC09Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA23 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100HA08 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特許第4009700号公報
  
• 国際公開第05/061566号パンフレット
  
• 極端紫外線用レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-066513   出願人：ライオン株式会社, 兵庫県

審査官引用 (1件)

• ハイパーブランチポリマーの合成方法およびレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-338941   出願人：ライオン株式会社