特許
J-GLOBAL ID：201003079213728611
蒸着方法及び蒸着装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
笹島 富二雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-113519
公開番号（公開出願番号）：特開2010-261081
出願日： 2009年05月08日
公開日（公表日）： 2010年11月18日
要約：
【課題】基板を搬送しながら行う蒸着において、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンの形成を可能にする。【解決手段】蒸着マスク16R,16G,16Bによる蒸着位置の基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段4により、蒸着マスク16Bに形成されたアライメントマークと有機EL表示用基板9表面に予め形成されたピクセルとを撮像し、該撮像画像に基づいてアライメントマークの基準位置とピクセルの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるようにアライメント手段5により蒸着マスク16R,16G,16Bを上記基板面に平行な面内にて搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、搬送中の有機EL表示用基板9のピクセル上に所定のパターンを蒸着して形成するものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して前記基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する蒸着方法であって、
前記蒸着マスクによる蒸着位置の前記基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段により、前記蒸着マスクに形成されたアライメントマークと前記基板表面に予め形成された基準パターンとを撮像し、
前記撮像画像に基づいて前記アライメントマークの基準位置と前記基準パターンの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるように前記蒸着マスクを前記基板面に平行な面内にて前記搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、前記基準パターン上に前記所定のパターンを蒸着形成する、
ことを特徴とする蒸着方法。
IPC (3件)：
C23C 14/04
, H05B 33/10
, H01L 51/50
C23C14/04 A
, H05B33/10
, H05B33/14 A
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC35
, 3K107CC42
, 3K107CC45
, 3K107GG04
, 3K107GG32
, 3K107GG33
, 3K107GG34
, 3K107GG54
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029BB03
, 4K029CA01
, 4K029DA12
, 4K029DB06
, 4K029FA00
, 4K029HA01
, 4K029KA01
