滅菌低温流体を製造する方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：小野新次郎 , 社本一夫 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 松山美奈子 , 森下梓
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-523149
公開番号（公開出願番号）：特表2010-538236
出願日： 2008年08月29日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：

滅菌低温流体を製造するための方法を開示する。常温ガスストリームがろ過によって滅菌され、熱交換器に供給され、結果として低温滅菌流体が形成される。熱交換器からの廃ガスストリームは第2のろ過ユニットに供給され、そして常温滅菌廃ガスストリームは第2の熱交換器に供給されて更なる低温滅菌流体を製造し、結果として滅菌プロセスにおいて用いられるガスのより効率的な使用をもたらす。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ガスストリームをろ過装置に供給して常温滅菌ガスを製造し、前記常温滅菌ガスを熱交換器に供給し、これによって前記常温滅菌ガスを冷却及び凝縮して滅菌液を製造することによって滅菌低温流体を製造するための改善された方法において、その改善が、常温滅菌ガスを製造するために、廃ガスストリームを前記熱交換器から第2のろ過装置に供給することを含む、前記方法。

IPC (4件)：

F25J 1/00 , A61L 2/02 , F17D 3/16 , F25J 3/08

FI (4件)：

F25J1/00 D , A61L2/02 Z , F17D3/16 , F25J3/08

Fターム (13件)：

3J071AA11 , 3J071DD28 , 4C058AA30 , 4C058BB02 , 4C058CC05 , 4D047AA01 , 4D047AA07 , 4D047AB01 , 4D047AB02 , 4D047AB04 , 4D047BB09 , 4D047DA17 , 4D047DB05

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平4-077303
特開平4-077303
特開昭60-134823

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