特許

J-GLOBAL ID：201003080144713958

酸化膜の形成方法、エレクトロウェッティング装置、液体レンズ装置、液滴装置、光学素子、ズームレンズ、撮像装置、光変調装置、表示装置及びストロボ装置

発明者： 三木 剛 ,  加藤 義明
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人信友国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-126862
公開番号（公開出願番号）：特開2010-276716
出願日： 2009年05月26日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：

【課題】樹脂基材や複雑な面形状を有する基材等に対しても密着力の高い誘電体層を形成する方法、及びこの誘電体層の形成されたエレクトロウェッティング装置や液体レンズを提供することを目的とする。【解決手段】基材上に亜酸化タングステン膜を形成し、その亜酸化タングステン膜上に金属膜を形成する。そしてその金属膜表面を陽極酸化することによって誘電体層の形成を行う。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

導電性または有極性を有する液体と、 前記液体に電圧を印加する第1電極及び第2電極と、 前記液体と前記第1電極との間に設けられた誘電体層と、 前記第1電極下に設けられた亜酸化タングステン又はこれに添加物を添加した材料より成るバッファ層と、 を含むエレクトロウェッティング装置。

IPC (6件)：

G02F 1/19 ,  G02B 3/14 ,  G02B 7/04 ,  G02B 7/28 ,  G11B 7/135 ,  G02B 15/00

FI (8件)：

G02F1/19 ,  G02B3/14 ,  G02B7/04 Z ,  G02B7/04 E ,  G02B7/11 Z ,  G11B7/135 Z ,  G11B7/135 A ,  G02B15/00

Fターム (23件)：

2H044BE01 ,  2H044BF01 ,  2H051FA01 ,  2H087KA03 ,  2H087KA06 ,  2H087PA01 ,  2H087PA02 ,  2H087PA18 ,  2H087PA19 ,  2H087PB02 ,  2H087PB04 ,  2H087RA26 ,  2H087RA27 ,  2H087SA04 ,  2H087SB03 ,  2H087SB13 ,  2H087UA09 ,  2H151FA01 ,  2K101BB22 ,  2K101CA01 ,  2K101EA41 ,  5D789JA01 ,  5D789JA43