特許
J-GLOBAL ID：201003080145958067
パターン形成装置およびパターン形成方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
吉武 賢次
, 佐藤 泰和
, 吉元 弘
, 川崎 康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-136218
公開番号（公開出願番号）：特開2010-283207
出願日： 2009年06月05日
公開日（公表日）： 2010年12月16日
要約：
【課題】スループットの低下およびアライメント精度の劣化を起こすことなく、インプリントによるパターンを形成する。【解決手段】被加工基板60を保持する基板ホルダ20と、 所定のパターンが形成されたテンプレート50を保持するテンプレートホルダ10と、 基板ホルダ20に保持された被加工基板60の位置を計測する位置計測装置21と、 テンプレートホルダ10に保持されたテンプレート50の位置を計測する位置計測装置12と、 被加工基板60上の固化したレジスト材料からテンプレート50を離型する際に生じた、被加工基板60及びテンプレート50の位置ずれ量をそれぞれ算出し、被加工基板60に対するテンプレート50の相対的な位置ずれ量を求め、この相対的な位置ずれ量を用いてパターン転写位置を補正する、制御装置40と、を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被加工基板を保持する、基板ホルダと、
所定のパターンが形成されたパターン面を有するテンプレートを保持する、テンプレートホルダと、
前記基板ホルダに保持された前記被加工基板、又は前記テンプレートホルダに保持された前記テンプレートの位置を計測することが可能な、位置計測装置と、
前記位置計測装置の計測結果に基づいて、離型工程によって生じた前記被加工基板又は前記テンプレートの位置ずれ量を算出し、前記位置ずれ量を用いて前記被加工基板と前記テンプレートの位置合わせを行う、制御装置と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AM22
, 4F209AP06
, 4F209AR07
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN13
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
