特許
J-GLOBAL ID：201003080449125681
パターン予測方法、プログラム及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
平田 忠雄
, 角田 賢二
, 中村 恵子
, 遠藤 和光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-206005
公開番号（公開出願番号）：特開2010-044101
出願日： 2008年08月08日
公開日（公表日）： 2010年02月25日
要約：
【課題】プロセスのばらつきを考慮したパターンの形状を高精度に予測することができるパターン予測方法、プログラム及び装置を提供する。【解決手段】このパターン予測方法は、第1のニューラルネットワークを用いて、第1のパターンを所定のプロセス条件で転写して形成すべき第2のパターンの形状データから、前記プロセス条件を変動させて前記第1のパターンを転写して形成される転写パターンが許容範囲内に収まるように、前記第1のパターンを前記所定のプロセス条件で転写する際の前記第2のパターンの目標となるターゲットパターンの形状データを求める第1のステップと、第2のニューラルネットワークを用いて、前記ターゲットパターンを前記所定のプロセス条件で形成するための新たな第1のパターンの形状データを求める第2のステップとを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1のニューラルネットワークを用いて、第1のパターンを所定のプロセス条件で転写して形成すべき第2のパターンの形状データから、前記プロセス条件を変動させて前記第1のパターンを転写して形成される転写パターンが許容範囲内に収まるように、前記第1のパターンを前記所定のプロセス条件で転写する際の前記第2のパターンの目標となるターゲットパターンの形状データを求める第1のステップと、
第2のニューラルネットワークを用いて、前記ターゲットパターンを前記所定のプロセス条件で形成するための新たな第1のパターンの形状データを求める第2のステップとを含むことを特徴とするパターン予測方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, H01L 21/027
, G03F 7/20
G03F1/08 A
, H01L21/30 502G
, G03F7/20 521
2H095BA01
, 2H095BA08
, 2H095BA10
, 2H095BB01
, 2H095BB02
, 5F046AA25
, 5F046AA28
, 5F046CD05
, 5F046DD06
出願人引用 (1件)
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光近接効果補正方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-339636
出願人：株式会社東芝
審査官引用 (7件)
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