特許

J-GLOBAL ID：201003080849768689

ガスバリア膜形成用組成物、ガスバリア性積層体及びそれを用いた成形体

発明者： 土田 和弘
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-287379
公開番号（公開出願番号）：特開2010-111819
出願日： 2008年11月10日
公開日（公表日）： 2010年05月20日
要約：

【課題】ガスバリア性、密着性、可撓性、耐屈曲性、透明性などの諸特性に優れたガスバリア性を付与させることができるコーティング剤組成物、それを用いてなるガスバリア性積層体、該積層体からなる成形体を提供する。【解決手段】トリアジンジチオール基を有するオルガノポリシロキサンを必須成分とするガスバリア膜形成用組成物、及びそれを用いてなるガスバリア積層体。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一分子中にトリアジンチオール基を有するオルガノポリシロキサン(A)を必須成分として含んでなることを特徴とするガスバリア膜形成用組成物。

IPC (5件)：

C09D 183/08 ,  B32B 27/00 ,  C09D 5/00 ,  C09D 201/00 ,  C09D 201/02

FI (5件)：

C09D183/08 ,  B32B27/00 101 ,  C09D5/00 Z ,  C09D201/00 ,  C09D201/02

Fターム (34件)：

4F100AA01A ,  4F100AA01C ,  4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100AK16D ,  4F100AK25 ,  4F100AK41D ,  4F100AK47D ,  4F100AK52B ,  4F100AK64D ,  4F100AK68D ,  4F100AL01D ,  4F100AL05B ,  4F100AT00D ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100EH46B ,  4F100EJ86 ,  4F100GB15 ,  4F100JD02B ,  4J038DL081 ,  4J038DL091 ,  4J038DL101 ,  4J038GA03 ,  4J038GA06 ,  4J038GA07 ,  4J038GA09 ,  4J038GA11 ,  4J038GA13 ,  4J038GA15 ,  4J038NA08 ,  4J038PB04 ,  4J038PB09

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第3119113号公報
  
• 気体バリア性積層フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-132703   出願人：株式会社日本触媒

審査官引用 (1件)

• トリアジンチオール基及びアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン及びその製造方法、並びに当該オルガノポリシロキサンを含有する接着用プライマー組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-037132   出願人：信越化学工業株式会社