X線反射装置及びその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： , , ,
代理人 (5件)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之 , 上杉浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-256136
公開番号（公開出願番号）：特開2010-085304
出願日： 2008年10月01日
公開日（公表日）： 2010年04月15日
要約：

【課題】直線的なスリットを形成したX線反射装置の欠点を解消することのできるX線結像装置を提供する。【解決手段】X線反射装置は、シリコンウェハをドライエッチングして複数の曲線状のスリットを形成し、前記複数のスリットの各側壁を磁性流体を使って研磨してX線反射面を形成して得られる。さらに、X線反射面の形成後に、シリコンウェハ全体を塑性変形することにより、曲面上のX線反射装置が得られる。他のX線反射装置は、X線LIGAプロセスで複数の曲線状のスリットが形成された金属基板を形成し、磁性流体を使って前記複数のスリットの各側壁を研磨してX線反射面を形成して得られる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

シリコンウェハをドライエッチングして、複数の曲線状のスリットを形成する工程と、磁性流体を使って前記複数のスリットの各側壁を研磨してX線反射面を形成する工程と、を含んだX線反射装置の製造方法。

IPC (3件)：

G21K 1/06 , G02B 5/08 , G02B 5/10

FI (6件)：

G21K1/06 D , G21K1/06 B , G21K1/06 C , G02B5/08 C , G02B5/08 A , G02B5/10

Fターム (8件)：

2H042DA01 , 2H042DA12 , 2H042DA22 , 2H042DC05 , 2H042DC08 , 2H042DC12 , 2H042DD08 , 2H042DE00

引用特許：

出願人引用 (1件)

特許第4025779号

審査官引用 (9件)

X線ズームレンズ
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-540790 出願人：ビーティージー・インターナショナル・リミテッド
選択励起蛍光X線分析装置および選択励起蛍光X線分析方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-289434 出願人：住友金属工業株式会社
研磨材、研磨材の製造方法及び研磨若しくは研削方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-334243 出願人：ニスカ株式会社, 梅原徳次

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