特許

J-GLOBAL ID：201003082285406202

走査光学装置及びその製造方法

発明者： 阿左見 純弥 ,  佐藤 一身
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人中川国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-091767
公開番号（公開出願番号）：特開2010-243747
出願日： 2009年04月06日
公開日（公表日）： 2010年10月28日
要約：

【課題】回転多面鏡の回転軸の軸倒れを簡単な方法で効果的に修正し、走査域全域に渡って良好なレーザスポット形状を有する走査光学装置及びその製造方法を提供すること。【解決手段】光源1から照射されるレーザ光束11を偏向する偏向器4と、偏向器4によって偏向された偏向光束12を被走査面上に結像させる走査レンズ7と、偏向器4を収容する光学箱10と備え、光学箱10に、偏向器4が固定される同一高さの複数の偏向器座面10aが突設されるとともに、偏向器座面10aより高さが低い少なくとも1つのサブ座面10bが突設されてなる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光源から照射されるレーザ光束を偏向する偏向器と、前記偏向器によって偏向されたレーザ光束を被走査面上に結像させる走査レンズと、前記偏向器を収容する光学箱と、を備えた走査光学装置において、 前記光学箱に、前記偏向器が固定される同一高さの複数の偏向器座面が突設されるとともに、前記偏向器座面より高さが低い少なくとも1つのサブ座面が突設されたことを特徴とする走査光学装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 ,  G02B 26/12 ,  H04N 1/113

FI (3件)：

G02B26/10 F ,  G02B26/10 102 ,  H04N1/04 104A

Fターム (18件)：

2H045AA02 ,  2H045AA33 ,  2H045DA02 ,  2H045DA04 ,  5C072AA03 ,  5C072BA02 ,  5C072BA04 ,  5C072DA02 ,  5C072DA04 ,  5C072DA21 ,  5C072DA23 ,  5C072DA30 ,  5C072HA02 ,  5C072HA13 ,  5C072HB08 ,  5C072HB15 ,  5C072XA01 ,  5C072XA05