特許
J-GLOBAL ID：201003082685984817
3層構造体の第3の光透過層の厚さの算出方法およびSOIウェーハの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-035708
公開番号（公開出願番号）：特開2010-192700
出願日： 2009年02月18日
公開日（公表日）： 2010年09月02日
要約：
【課題】3層構造体の第3の光透過層の厚さの算出方法および活性層の厚さを正確に算出しながら前記活性層の薄膜化を行うSOIウェーハの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】第1の光透過層3と、第1の光透過層3の一面3aに形成された第2の光透過層2と、第2の光透過層2の第1の光透過層3と反対側の面2aに形成された第3の光透過層1とからなる3層構造体10へ第3の光透過層1側から光を照射したときに3層構造体10から得られる反射光の理論強度を計算する工程と、3層構造体10に第3の光透過層1側から光を照射して、3層構造体10から得られる反射光の実測強度を測定する工程と、前記理論強度と前記実測強度とを比較して第3の光透過層1の厚さd1を算出する工程と、を有する3層構造体の第3の光透過層の厚さの算出方法を用いることにより、上記課題を解決できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1の光透過層と、前記第1の光透過層の一面に形成された第2の光透過層と、前記第2の光透過層の前記第1の光透過層と反対側の面に形成された第3の光透過層とからなる3層構造体へ前記第3の光透過層側から光を照射したときに前記3層構造体から得られる反射光の理論強度を計算する工程と、
前記3層構造体に前記第3の光透過層側から光を照射して、前記3層構造体から得られる反射光の実測強度を測定する工程と、
前記理論強度と前記実測強度とを比較して前記第3の光透過層の厚さを算出する工程と、を有することを特徴とする3層構造体の第3の光透過層の厚さの算出方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L27/12 T
, H01L21/66 P
4M106AA01
, 4M106AA10
, 4M106CA48
, 4M106DH03
, 4M106DJ38
