特許

J-GLOBAL ID：201003082707187622

ビニルエーテル架橋剤を使用した反射防止膜

発明者： ゲレロ ダグラス ジェイ. ,  メルカド ラミル-マルセロ エル.
出願人/特許権者： ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー.
代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-552775
公開番号（公開出願番号）：特表2010-520516
出願日： 2008年01月24日
公開日（公表日）： 2010年06月10日
要約：

新規の現像剤可溶性の反射防止膜組成物およびそれらの組成物を使用する方法を提供する。該組成物は、酸官能基を有し、かつ溶媒系に溶解されるポリマーおよび/またはオリゴマー、および、それとともに、架橋剤、光酸発生剤、および任意に、発色団を含む。好適な酸官能基は、カルボン酸であり、一方、好適な架橋剤は、ビニルエーテル架橋剤である。該組成物を、使用時に、基板に塗布し、熱的に架橋する。光への曝露(および任意に、曝露後の焼成)後、硬化された組成物を、脱架橋し、それらを、典型的なフォトレジスト現像溶液(例えば、アルカリ現像剤)に可溶化させる。一実施形態において、該組成物を使用して、マイクロ電子基板中にイオン注入領域を形成することができる。

請求項（抜粋）：

イオン注入領域を形成する方法であって、 基板と、前記基板に隣接する反射防止層と、前記反射防止層に隣接するフォトレジストとを含む構造を提供するステップであって、前記反射防止層は、その中に形成され、前記フォトレジスト中に形成された少なくとも1つの開口部と連通している、少なくとも1つの開口部を有し、前記反射防止層は、以下の式を有する連鎖を含む架橋化合物を含み、

IPC (6件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/40 ,  G03F 7/09 ,  C07C 43/164 ,  C07C 69/76 ,  G03F 7/11

FI (6件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/40 521 ,  G03F7/09 501 ,  C07C43/164 ,  C07C69/76 A ,  G03F7/11 503

Fターム (40件)：

2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096JA04 ,  2H125AF17N ,  2H125AF35N ,  2H125AF36N ,  2H125AF57P ,  2H125AH02 ,  2H125AH12 ,  2H125AJ04X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AM22N ,  2H125AM23N ,  2H125AN02P ,  2H125AN21P ,  2H125AN29P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN57P ,  2H125AN64P ,  2H125BA01P ,  2H125BA18P ,  2H125BA21P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB02 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125DA31 ,  4H006AA01 ,  4H006AB46 ,  4H006BJ50 ,  4H006BP10 ,  4H006GN03 ,  4H006GP01 ,  4H006KA14