特許
J-GLOBAL ID:201003084132197216
光学多層薄膜、光学素子およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
佐野 弘
, 石井 明夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-013012
公開番号(公開出願番号):特開2010-169940
出願日: 2009年01月23日
公開日(公表日): 2010年08月05日
要約:
【課題】樹脂層および最外層を備えた光学多層薄膜において、樹脂層の形成を短時間で低廉に行う。【解決手段】光学多層薄膜4は、光学基材2の光学面2aに形成可能な1層以上の樹脂層3と、樹脂層3の外側に形成され、光学基材2より小さい屈折率を有する最外層5とを備えている。樹脂層3の材料は、活性エネルギー線硬化性樹脂前駆体組成物の硬化物である。最外層5は、多数のMgF2 粒子と、これらのMgF2 粒子間に存在する非晶質酸化珪素系バインダとを備えている。活性エネルギー線硬化性樹脂前駆体組成物に活性エネルギー線を照射することにより、光学基材2の上側に樹脂層3を形成することができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
光学基材の光学面に形成可能な1層以上の樹脂層と、前記樹脂層の外側に形成され、前記光学基材より小さい屈折率を有する最外層とを備えた光学多層薄膜であって、
前記樹脂層は、活性エネルギー線硬化性樹脂前駆体組成物の硬化物からなり、
前記最外層は、多数のMgF2 粒子と、これらのMgF2 粒子間に存在する非晶質酸化珪素系バインダとを備えていることを特徴とする光学多層薄膜。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (9件):
2K009AA03
, 2K009BB11
, 2K009CC03
, 2K009CC09
, 2K009CC24
, 2K009CC42
, 2K009CC45
, 2K009DD02
, 2K009DD05
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (2件)
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特開昭60-088901
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特開昭60-088901
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