特許
J-GLOBAL ID：201003084921427722
静電噴射装置および静電噴射方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
藤田 和子
, 新山 雄一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-507984
公開番号（公開出願番号）：特表2010-530795
出願日： 2008年05月19日
公開日（公表日）： 2010年09月16日
要約：
本発明は、静電噴射装置および静電噴射方法に関し、より具体的には、液体を噴射できる噴射領域(29)を有するエミッタ(2)および液体中に電荷を注入する手段を用いてパルス状の制御された容積を分配する静電噴射装置(1)および方法であって、使用中、液体(3)は静電力によって噴射領域に搬送され、電荷が注入されている間1つ以上のパルスの形態で静電噴射が発生する。電荷は、エレクトロスプレーが閾値より大きいとき発生するように、時間変動しても、またはゼロでない一定値の電界によって注入されてよい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
パルス状の実質的に非導電性の液体の制御された容積を分配する静電噴射装置であって、
前記装置は、
その領域から前記液体を噴霧できる噴射領域を有するエミッタと、
前記液体に電荷を注入する手段と、を備え、それによって、使用中に、前記液体は静電力によって前記噴射領域に搬送され、前記電荷が注入される間、1つ以上のパルス状の静電噴射が発生する装置。
IPC (8件)：
B05B 5/043
, G01N 35/10
, A61M 11/00
, A61M 35/00
, H05B 33/10
, B41J 2/06
, B05B 5/025
, B05D 1/04
B05B5/043
, G01N35/06 A
, A61M11/00 Z
, A61M35/00 Z
, A61M11/00 F
, H05B33/10
, B41J3/04 103G
, B05B5/025 E
, B05D1/04 A
2C057AG17
, 2C057BD06
, 2G058EA14
, 2G058ED11
, 3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC33
, 3K107CC45
, 3K107DD70
, 3K107GG06
, 3K107GG07
, 3K107GG35
, 3K107GG36
, 4C167AA71
, 4C167CC01
, 4C167EE20
, 4D075AA09
, 4D075AA31
, 4D075AA86
, 4D075AA87
, 4D075BB12Y
, 4D075CA22
, 4D075DA06
, 4D075DC24
, 4D075DC30
, 4D075EA05
, 4D075EA33
, 4D075EB07
, 4F034BA01
, 4F034BB15
, 4F034BB23
, 4F034DA05
, 4F034DA26
