特許
J-GLOBAL ID：201003085457374242
三次元形状造形物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
板谷 康夫
, 田口 勝美
, 水田 愼一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-119021
公開番号（公開出願番号）：特開2010-265521
出願日： 2009年05月15日
公開日（公表日）： 2010年11月25日
要約：
【課題】三次元造形物の製造方法において、チャンバ内のヒュームの除去を容易に行なうことができ、光ビームの照射位置精度及び加工精度を良くする。【解決手段】積層造形装置1は、粉末層形成部3と、光ビーム照射部4と、粉末層32が形成される固定されたベース22と、ベース22の外周を囲むと共に上昇下降自在な昇降枠34と、上面に光ビームを透過するウィンドウ36aを有し且つ下面が開放されて昇降枠34上に配されてチャンバCを形成する覆い枠36と、雰囲気ガスを供給するガスタンク71とを備える。昇降枠34を下降させることによりチャンバCの容積を減少させ、覆い枠36内に発生したヒュームを排気し、雰囲気ガスとの置換を行なう。チャンバCの容積が減少しているので、ヒュームの除去を容易に行なうことができ、光ビームLの照射位置精度及び加工精度が良くなる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
無機質又は有機質の粉末材料を供給して粉末層を形成する粉末層形成工程と、前記粉末層に光ビームを照射して該粉末層を焼結又は溶融固化させ固化層を形成する固化層形成工程とを繰り返すことにより固化層を積層する積層造形装置を用いて、三次元形状造形物を造形する三次元形状造形物の製造方法において、
前記積層造形装置は、前記粉末層形成工程を実施する粉末層形成手段と、前記光ビームを照射する光ビーム照射部と、前記粉末層及び固化層が上面側に形成される固定されたベースと、前記ベースの外周を囲むと共に該ベースに対して上昇下降自在な昇降枠と、前記昇降枠を上昇下降させる昇降駆動手段と、上面に光ビームを透過するウィンドウを有し、且つ下面が開放されて前記昇降枠上に配されてチャンバを形成する覆い枠と、前記覆い枠内に雰囲気ガスを供給する雰囲気ガス供給手段と、を備え、
前記昇降枠を下降させることにより前記チャンバの容積を減少させ前記覆い枠内に発生したヒュームを排気し、該昇降枠を上昇させることにより該チャンバの容積を増加させ雰囲気ガス供給手段から雰囲気ガスの給気を行うことを特徴とする三次元形状造形物の製造方法。
IPC (3件)：
B22F 3/16
, B22F 3/105
, B29C 67/00
B22F3/16
, B22F3/105
, B29C67/00
4F213AC04
, 4F213WA22
, 4F213WA25
, 4F213WB01
, 4F213WL02
, 4F213WL12
, 4F213WL67
, 4F213WL87
, 4K018AA24
, 4K018BA13
, 4K018CA44
, 4K018DA23
