特許

J-GLOBAL ID：201003085978934406

ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 加藤 紀哉
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (3件)： 大澤 圭司 ,  菅 隆之 ,  白石 直正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-096348
公開番号（公開出願番号）：特開2010-251379
出願日： 2009年04月10日
公開日（公表日）： 2010年11月04日
要約：

【課題】本発明は、露光不良を抑制できるステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】マスクステージ1は、第1保持部4と、第2保持部6とを備える。マスクMをマスクステージ1に保持した状態において、マスクMの裏面Mbと第1保持部4で形成される第1空間S1の圧力と、マスクMの裏面Mbと第2保持部6で形成される第2空間S2の圧力とが異なる。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

板状物体を保持するステージ装置であって、 前記板状物体を保持する第1保持部と第2保持部と、を備え、 前記板状物体を前記第1保持部と前記第2保持部とに保持する状態において、 前記第1保持部で前記板状物体を保持する力と、前記第2保持部で前記板状物体を保持する力とが異なるステージ装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 515F

Fターム (4件)：

5F046CC02 ,  5F046CC09 ,  5F046CC10 ,  5F046CC11