特許
J-GLOBAL ID:201003086486187393

チャンバ中央のガス分配プレート、同調型プラズマ流制御グリッド及び電極

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 長谷川 芳樹 ,  山田 行一 ,  池田 成人
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-540314
公開番号(公開出願番号):特表2010-512031
出願日: 2007年12月05日
公開日(公表日): 2010年04月15日
要約:
半導体ウェハ又は誘電体マスクのようなワークピースを処理するためのプラズマリアクタが提供される。リアクタのチャンバは、天井と、側壁と、チャンバ内にあるワークピース支持ペデスタルであって、対称軸に沿って天井を向き、該ペデスタルと天井との間のチャンバ容積を画成するワークピース支持ペデスタルとを有する。RFプラズマソース電力印加装置が天井に設けられる。チャンバ内には、その場の電極本体が横たわり、チャンバを上部チャンバ領域及び下部チャンバ領域に分割する。その場の電極は、軸に平行に延び且つ異なる開口サイズをもつ複数のフロースルー通路を有し、これら通路は、その場の電極本体を通してのガス流抵抗の望ましい半径方向分布に基づいて開口サイズにより半径方向に分布される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
天井、側壁、及びワークピース支持ペデスタルを有するリアクタチャンバであって、ワークピース支持ペデスタルは、前記チャンバの内部にあり、且つ対称軸に沿って前記天井を向くと共に、前記ペデスタルと前記天井との間にチャンバ容積を画成するようなリアクタチャンバと、 前記天井にあるRFプラズマソース電力印加装置、及び前記印加装置に結合されたRFプラズマソース電力ジェネレータと、 前記チャンバ内部にあり、前記軸を横断する平面内で前記天井と前記支持ペデスタルの中間に横たわり、且つ前記チャンバを上部チャンバ領域及び下部チャンバ領域に分割するその場の電極本体と、 を備え、前記その場の電極は、 (a)前記軸に平行に延び且つ異なる開口サイズを有する複数のフロースルー通路であって、前記その場の電極本体を通してのガス流抵抗の望ましい半径方向分布に基づいて開口サイズにより半径方向に分布された通路、 (b)前記本体内部にあって、前記複数のフロースルー通路により浸透される導電性電極要素、及び前記導電性電極要素に結合された電気端子、 を含むものである、プラズマリアクタ。
IPC (2件):
H01L 21/306 ,  H05H 1/46
FI (3件):
H01L21/302 101B ,  H05H1/46 L ,  H05H1/46 M
Fターム (4件):
5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB18 ,  5F004BB32

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