特許

J-GLOBAL ID：201003087949522819

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法

発明者： 岩戸 薫
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-067077
公開番号（公開出願番号）：特開2010-256872
出願日： 2010年03月23日
公開日（公表日）： 2010年11月11日
要約：

【課題】線幅ラフネス、バブル欠陥抑制、パーティクル抑制、スカム低減の諸性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の提供。【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含む、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、(B)下記一般式(2)〜(4)のいずれかで表される化合物を閉環重合して得られる繰り返し単位を少なくとも1種含む樹脂、もしくは、該樹脂から誘導して得られる樹脂、(C)活性光線又は放射線により酸を発生する化合物、及び、(D)溶媒を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含む、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、 (B)下記一般式(2)〜(4)のいずれかで表される化合物を閉環重合して得られる繰り返し単位を少なくとも1種含む樹脂、もしくは、該樹脂から誘導して得られる樹脂、 (C)活性光線又は放射線により酸を発生する化合物、及び、 (D)溶媒 を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/22 ,  C08F 16/24

FI (6件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/22 ,  C08F16/24

Fターム (77件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH06 ,  2H125AH11 ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ98X ,  2H125AJ98Y ,  2H125AL02 ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AL22 ,  2H125AM48P ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN37P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN51P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN63P ,  2H125AN64P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL02Q ,  4J100AS13P ,  4J100BA02P ,  4J100BA15P ,  4J100BB07P ,  4J100BB18P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38