特許

J-GLOBAL ID：201003089028332286

光触媒被膜形成体およびその製造方法

発明者： 鈴木 哲也 ,  児玉 英之 ,  白倉 昌
出願人/特許権者： 財団法人神奈川科学技術アカデミー
代理人 (1件)： 伴 俊光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-048968
公開番号（公開出願番号）：特開2010-201327
出願日： 2009年03月03日
公開日（公表日）： 2010年09月16日
要約：

【課題】光触媒被膜上に光触媒被膜とは別の被膜を積層し、光触媒被膜の保護や耐久性向上、光触媒活性向上を実現可能とした光触媒被膜形成体とその製造方法を提供する。【解決手段】基材の表面に形成され酸化チタンを主成分とする酸化チタン被膜と、該酸化チタン被膜に積層して形成され炭素原子及び水素原子を主構成原子として含む微多孔質の炭素系被膜とを有するとともに、酸化チタン被膜と炭素系被膜の境界部位に炭化チタンを含有していることを特徴とする光触媒被膜形成体、およびその製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材の表面に形成され酸化チタンを主成分とする酸化チタン被膜と、該酸化チタン被膜に積層して形成され炭素原子及び水素原子を主構成原子として含む微多孔質の炭素系被膜とを有するとともに、前記酸化チタン被膜と前記炭素系被膜の境界部位に炭化チタンを含有していることを特徴とする光触媒被膜形成体。

IPC (1件)：

B01J 35/02

FI (1件)：

B01J35/02 J

Fターム (37件)：

4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04C ,  4G169BA08A ,  4G169BA17 ,  4G169BA21A ,  4G169BA21C ,  4G169BA22A ,  4G169BA48A ,  4G169BB15A ,  4G169BC50A ,  4G169BD01A ,  4G169BD01C ,  4G169BD02A ,  4G169BD04A ,  4G169BD04C ,  4G169BD06A ,  4G169BE01C ,  4G169DA06 ,  4G169EA07 ,  4G169EA11 ,  4G169EC28 ,  4G169EE01 ,  4G169EE06 ,  4G169FA01 ,  4G169FA03 ,  4G169FB03 ,  4G169FB58 ,  4G169FC08 ,  4G169HA01 ,  4G169HB01 ,  4G169HC02 ,  4G169HC14 ,  4G169HC29 ,  4G169HD14